[发明专利]电子元件的制造方法及制造装置有效
申请号: | 201080022254.3 | 申请日: | 2010-06-01 |
公开(公告)号: | CN102439672A | 公开(公告)日: | 2012-05-02 |
发明(设计)人: | 堤启恭 | 申请(专利权)人: | 株式会社村田制作所 |
主分类号: | H01G13/00 | 分类号: | H01G13/00;H01G4/12;H01G4/30 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 樊建中 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子元件 制造 方法 装置 | ||
1.一种电子元件的制造方法,该电子元件具备:
长方体状的电介质块,其具有排列于高度方向的第1及第2主面、排列于宽度方向的第1及第2侧面、及第1及第2端面;
第1内部电极,其从所述第1端面向所述电介质块的内部延伸;
第2内部电极,其从所述第2端面向所述电介质块的内部延伸,且与所述第1内部电极对置;
第1外部电极,其与所述第1内部电极连接;及
第2外部电极,其与所述第2内部电极连接,
所述第1外部电极具有形成于所述第1主面上的第1部分、形成于所述第2主面上的第2部分、及形成于所述第1端面上的第3部分,
所述第2外部电极具有形成于所述第1主面上的第1部分、形成于所述第2主面上的第2部分、及形成于所述第2端面上的第3部分,
该电子元件的制造方法具备:
准备工序,准备具备所述第1及第2内部电极的电介质块;及
形成工序,在所述电介质块形成所述第1及第2外部电极,
在所述形成工序中,通过配置于所述第1主面侧的检测器,检测从所述第2主面侧向所述电介质块照射出的光,由此检测所述电介质块内的所述第1及第2内部电极的位置,通过在基于该检测结果所确定的所述第1主面上的部分形成导电膜,由此形成所述第1及第2外部电极的各自的第1部分。
2.如权利要求1所述的电子元件的制造方法,其中,
在所述形成工序中,通过配置于所述第2主面侧的检测器,检测从所述第1主面侧向所述电介质块照射出的光,由此检测所述电介质块内的所述第1及第2内部电极的位置,通过在基于该检测结果所确定的所述第2主面上的部分形成导电膜,由此形成所述第1及第2外部电极的各自的第2部分。
3.如权利要求1或2所述的电子元件的制造方法,其中,
在所述准备工序中所准备的所述电介质块是将多组所述第1及第2内部电极形成为矩阵状的母基板,
所述形成工序包含:在形成所述导电膜后将所述母基板切断成多个芯片,而由所述导电膜形成所述第1及第2外部电极的各自的第1部分的切断工序;及对于所述多个芯片的每一个芯片形成所述第1及第2外部电极的各自的所述第3部分的工序。
4.如权利要求3所述的电子元件的制造方法,其中,
所述第1及第2外部电极的各自的所述第1部分形成于所述电介质块的宽度方向整个范围,且
将所述导电膜沿着所述电介质块的宽度方向形成为带状。
5.如权利要求1至4中任一项所述的电子元件的制造方法,其中,
通过网版印刷法、喷墨印刷法、照相凹版印刷法或光刻法而形成所述导电膜。
6.一种电子元件的制造装置,其是用于通过权利要求1至5中任一项所述的电子元件的制造方法制造电子元件的制造装置,该电子元件的制造装置具备:
光源,其向所述电介质块照射光;
所述检测器;及
形成机构,其用于形成所述导电膜。
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