[发明专利]氢氟烷检测装置

权利要求书

1.一种用于检测氢氟烷气体的方法，所述方法包括：

在足以使氢氟烷气体分解形成HF气体和一种或多种电离粒子的条件 下，用放射性元素照射气体样品；

使用带电粒子过滤器过滤所述一种或多种电离粒子；和

使用HF传感器检测所述HF气体，其中所述HF气体的存在指示氢 氟烷气体的存在。

2.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括响应所述HF气体的 检测而触发警报器。

3.根据权利要求1所述的方法，所述方法还包括响应所述HF气体的 检测而触发氢氟烷消除装置。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述氢氟烷气体包含四氟乙烷、 五氟乙烷、三氟乙烷和二氟乙烷中的至少一种。

5.根据权利要求1的方法，其中所述HF传感器包括半导体气体传感 器或二氧化锡基薄膜传感器。

6.根据权利要求1所述的方法，其中所述放射性元素是α辐射化合物。

7.根据权利要求6所述的方法，其中所述α辐射化合物是镅。

8.根据权利要求1所述的方法，其中所述带电粒子过滤器是带电金属 栅。

9.一种氢氟烷检测装置，所述氢氟烷检测装置包括：

分解组件，所述分解组件被配置为用放射性元素照射气体样品以使氢 氟烷气体在足以形成HF气体和一种或多种电离粒子的条件下分解；

带电粒子过滤器，所述带电粒子过滤器被配置为过滤所述一种或多种 电离粒子；和

传感组件，所述传感组件被配置为检测所述HF气体。

10.根据权利要求9所述的氢氟烷检测装置，所述氢氟烷检测装置还 包括触发组件，所述触发组件被配置为响应所述HF气体的检测而触发警 报器。

11.根据权利要求9所述的氢氟烷检测装置，所述氢氟烷检测装置还 包括触发组件，所述触发组件被配置为响应所述HF气体的检测而触发氢 氟烷消除装置。

12.根据权利要求9所述的氢氟烷检测装置，其中所述氢氟烷气体包 含四氟乙烷、五氟乙烷、三氟乙烷和二氟乙烷中的至少一种。

13.根据权利要求9所述的氢氟烷检测装置，其中所述放射性元素包 括镅。

14.根据权利要求9所述的氢氟烷检测装置，其中所述带电粒子过滤 器包括带电金属栅。

15.一种制冷装置，所述制冷装置包括：

氢氟烷检测器，所述氢氟烷检测器被配置为检测氢氟烷气体，其中所 述氢氟烷检测器包括：

分解组件，所述分解组件被配置为在足以使氢氟烷气体分解成包括 HF气体和一种或多种电离粒子的组合物的条件下，用镅照射氢氟烷气体 样品；

带电粒子过滤器，所述带电粒子过滤器被配置为过滤所述一种或多种 电离粒子；和

传感组件，所述传感组件被配置为检测所述HF气体。

16.根据权利要求15所述的制冷装置，所述制冷装置还包括氢氟烷消 除装置，所述氢氟烷消除装置被配置为将所述氢氟烷气体转化为替代成 分，其中所述替代成分具有比所述氢氟烷气体小的全球变暖潜势值，并且 其中所述替代成分包含由氢氟烷成分与受热的玻璃表面中的碱性离子反 应所形成的氟化钙或氟化钠中的至少一种。

17.根据权利要求16所述的制冷装置，其中所述氢氟烷检测器还包括 触发组件，所述触发组件被配置为响应所述HF气体的检测而启动所述氢 氟烷消除装置。

18.根据权利要求15所述的制冷装置，其中所述氢氟烷检测器还包括 触发组件，所述触发组件被配置为响应所述HF气体的检测而触发警报器。

19.根据权利要求15所述的制冷装置，所述制冷装置还包括制冷剂盘 管和压缩机，且其中所述氢氟烷检测器位于被所述制冷剂盘管围绕的区域 中或位于所述压缩机中。