[发明专利]电介质陶瓷组合物的制造方法和电子部件的制造方法无效

专利信息
申请号: 201110036019.8 申请日: 2011-02-09
公开(公告)号: CN102190493A 公开(公告)日: 2011-09-21
发明(设计)人: 小岛隆;柴崎智也 申请(专利权)人: TDK株式会社
主分类号: C04B35/49 分类号: C04B35/49;C04B35/468;C04B35/622;H01G4/30;H01G4/12
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 蔡晓菡;高旭轶
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 电介质 陶瓷 组合 制造 方法 电子 部件
【说明书】:

技术领域

发明涉及电介质陶瓷组合物的制造方法和电子部件的制造方法,进而详细地,涉及制造电介质陶瓷组合物和电介质层中具有该电介质陶瓷组合物的电子部件的方法,所述电介质陶瓷组合物即使在容量温度特性的绝对值大的情况下,也可以在宽的温度范围,使容量变化率相对于该绝对值为规定的范围。

背景技术

所谓VR(Voltage Regulator,调压器),是使驱动笔记本型电脑等的CPU的DC/DC转换器的电压恒定的装置。该VR的输出电流通过感应器的电阻(Rdc)检测。但是,由于发热等,Rdc发生变化,由此有检测值产生误差的问题,期望在宽的温度范围能够正常使用。

因此,现状是采用通过使用NTC热敏电阻来补正误差的方法。

此外,VR装置的回路中通常使用电容器,例如,通过使用具有-5000ppm/℃左右的绝对值大的容量温度特性的电容器,认为可以补正该误差。通过使用该方法,不需要NTC热敏电阻,具有成本上的优点。

但是,由于期望电容器的容量温度特性的绝对值小(容量变化相对于温度变化小),现状是几乎没有容量温度特性的绝对值大的电容器的报道。并且,即使是通常的电容器的容量温度特性的绝对值最大的情况,也不过是-1000ppm/℃或者350ppm/℃左右。

日本实开平5-61998号公报中公开了具有-1500~-5000ppm/℃的容量温度特性、进而使用含有SrTiO320~95重量%的陶瓷作为电介质的陶瓷电容器。但是,日本实开平5-61998号公报的陶瓷电容器的电介质层的组成有不明的部分,对于其它成分完全没有记载。此外,也没有记载在怎样的温度范围下能够具有上述的容量温度特性。

发明内容

鉴于这样的现状,本发明目的是提供制造电介质陶瓷组合物和电介质层中具有该电介质陶瓷组合物的电子部件的方法,所述电介质陶瓷组合物即使在容量温度特性的绝对值大的情况下,也可以在宽的温度范围,使容量变化率相对于该绝对值为规定的范围。

本发明人为了实现上述目的进行了努力研究,结果发现,通过使用组成不同的多种原料作为主成分的原料,可以制造具有大的容量温度特性(例如-7000~-3000ppm/℃)的电介质陶瓷组合物,从而完成了本发明。

为了实现上述目的,本发明的电介质陶瓷组合物的制造方法,是制造具有用通式(Ba1-x-ySrxCay)m(Ti1-zZrz)O3表示的主成分的电介质陶瓷组合物的方法,其特征在于,具有:

准备用通式(Ba1-x1-ySrx1Cay)m(Ti1-zZrz)O3表示的第1主成分的原料和用通式(Ba1-x2-ySrx2Cay)m(Ti1-zZrz)O3表示的第2主成分的原料的工序、

将上述第1主成分的原料和上述第2主成分的原料混合,得到上述主成分的原料的工序、

将上述主成分的原料进行烧成的工序,

在上述主成分的摩尔数为1、上述第1主成分的摩尔数为a、上述第2主成分的摩尔数为b时,a+b=1、a∶b=20∶80~80∶20,

上述x、x1、x2、a和b满足0.20≤x≤0.40、x=(ax1+bx2)、x1/x2≥1.05的关系,

上述y满足0≤y≤0.20,

上述z满足0≤z≤0.30,

上述m满足0.950≤m≤1.050。

优选上述电介质陶瓷组合物具有:

包含Mg的氧化物的第1副成分、

包含选自Mn或Cr的至少1种元素的氧化物的第2副成分、

包含R的氧化物(其中,R为选自Y、La、Ce、Pr、Nd、Sm、Gd、Tb、Dy、Ho和Yb中的至少1种)的第3副成分,和

包含含有Si的氧化物的第4副成分,

相对于上述主成分100摩尔,各副成分的比率为:

第1副成分:0.5~5摩尔,以元素换算,

第2副成分:0.05~2摩尔,以元素换算,

第3副成分:1~8摩尔,以元素换算,

第4副成分:0.5~5摩尔,以氧化物、或复合氧化物换算。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于TDK株式会社,未经TDK株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110036019.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top