[发明专利]用于探询碳层厚度的方法和系统

权利要求书

1.一种探询驻留在磁记录磁头和磁记录盘至少之一上的碳层的厚度的方法，所述方法包括：

在所述碳层上设置增强膜，所述增强膜在所述碳层的一部分上连续；

将所述增强膜暴露于来自光源的光，所述增强膜驻留在所述光源和所述碳层之间；

检测来自所述碳层的散射光以提供表面增强拉曼光谱法光谱；以及

基于所述表面增强拉曼光谱法光谱确定所述碳层的厚度。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述碳层是碳外涂层。

3.根据权利要求2所述的方法，其中所述碳外涂层包括类金刚石碳和氮化碳中的至少之一。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述设置增强膜的步骤还包括：

沉积Au、Ag、Pd、Rh、Li、Na和Pt中的至少之一。

5.根据权利要求4所述的方法，其中所述增强膜具有不超过40纳米的厚度。

6.根据权利要求5所述的方法，其中所述厚度不超过12纳米。

7.根据权利要求4所述的方法，其中所述增强膜具有至少1纳米的厚度。

8.根据权利要求7所述的方法，其中所述厚度是至少5纳米。

9.根据权利要求1所述的方法，其中所述碳层驻留在包括所述磁记录磁头的滑动件上。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述磁头包括写屏蔽件，并且其中所述碳层驻留在所述写屏蔽件上。

11.根据权利要求1所述的方法，其中所述碳层具有不超过150埃的厚度。

12.根据权利要求11所述的方法，其中所述厚度不超过25埃。

13.根据权利要求11所述的方法，其中所述碳层具有不超过10埃的厚度。

14.根据权利要求11所述的方法，其中所述碳层具有不超过5埃的厚度。

15.根据权利要求9所述的方法，其中所述磁头包括绝缘层，并且其中所述碳层驻留在所述绝缘层上。

16.根据权利要求1所述的方法，其中将所述增强膜暴光的步骤还包括：

衰减所述光源的强度使得所述增强膜在将所述增强膜暴光的步骤期间保持连续。

17.根据权利要求1所述的方法，其中所述光源包括514nm激光器、532nm激光器和784nm激光器中至少之一。

18.一种探询驻留在滑动件和磁记录盘至少之一上的碳外涂层的厚度的方法，所述碳外涂层具有不超过25埃的厚度，所述方法包括：

在所述碳外涂层上设置增强膜，所述增强膜在所述碳外涂层的一部分上连续并且具有不超过12纳米而且不小于5纳米的厚度，所述增强膜包括Au、Ag、Pd、Rh、Li、Na和Pt中至少之一；

将所述增强膜暴露于来自激光器的光，所述增强膜驻留在所述激光器和所述碳外涂层之间，入射到所述增强膜上的所述光的强度不足以在暴光期间熔化所述增强膜；

检测来自所述碳外涂层的散射光以提供表面增强拉曼光谱法光谱；以及

基于所述表面增强拉曼光谱法光谱确定所述碳外涂层的厚度。

19.一种探询驻留在滑动件和磁记录盘至少之一上的碳层的厚度的方法，所述碳层具有不超过25埃的厚度，所述方法包括：

在所述碳层上设置增强膜，所述增强膜在所述碳层的一部分上连续并且包括Au、Ag、Pd、Rh、Li、Na和Pt中的至少之一；

使用光源在所述碳层上进行表面增强拉曼光谱法，所述增强膜驻留在所述碳层和所述光源之间；

基于所述表面增强拉曼光谱法确定所述碳层的厚度。