[发明专利]一种测量运动台运动精度的测量装置及其测量方法

权利要求书

1.一种测量运动台运动精度的测量装置，包括沿光传播方向依次设置的照明系统、用于放置测试掩模板的掩模台、投影物镜以及用于放置测试硅片的工件台，其特征在于，所述测量装置还包括：

多数测试标记，所述多数测试标记呈矩阵分布在所述测试掩模板，每个测试标记具有同心设置的第一套刻标记和第二套刻标记；以及

套刻标记曝光控制结构，设置于所述测试掩模板和照明系统之间，用于选定所述第一套刻标记和第二套刻标记依序暴露在所述照明系统发出照明光源下，使得所述测试掩模板上的第一套刻标记和第二套刻标记经所述投影物镜依序曝光到所述测试硅片上形成两层套刻标记图形，依据所述两层套刻标记图形的套刻误差测算出所述运动台的运动精度。

2.根据权利要求1所述的测量运动台运动精度的测量装置，其特征在于，所述套刻标记曝光控制结构包括：

第一矩阵光阑，用以将所述第一套刻标记完全曝露在所述照明光源下，而使所述第二套刻标记完全遮蔽；

第二矩阵光阑，用以将所述第二套刻标记完全曝露在所述照明光源下，而使所述第一套刻标记完全遮蔽；

矩阵光阑交换机构；

矩阵光阑固定机构，用于将所述第一矩阵光阑或第二矩阵光阑固定在所述测试掩模板的上方；以及

矩阵光阑控制台，用于控制所述矩阵光阑交换机构将所述第一矩阵光阑或第二矩阵光阑输送到所述矩阵光阑固定机构。

3.根据权利要求2所述的测量运动台运动精度的测量装置，其特征在于：

所述第一矩阵光阑包括呈矩阵分布的第一通光孔，当所述第一矩阵光阑位于所述测试掩模板的正上方时，所述第一套刻标记从所述第一通光孔中完全露出，所述第二套刻标记被所述第一矩阵光阑所遮蔽；以及

所述第二矩阵光阑包括呈矩阵分布的第二通光孔，当所述第二矩阵光阑位于所述测试掩模板的正上方时，所述第二套刻标记从所述第二通光孔中完全露出，所述第一套刻标记被所述第二矩阵光阑所遮蔽。

4.根据权利要求3所述的测量运动台运动精度的测量装置，其特征在于，

所述第一套刻标记是呈“回”字形的外框标记，所述第一通光孔是“回”字形孔，当所述第一通光孔和所述第一套刻标记中心重叠时，仅使得所述第一套刻标记落在所述第一通光孔范围内；以及

所述第二套刻标记是内框标记，所述第二通光孔是正方形孔，所述正方形孔的大小比所述内框标记大，当所述第二通光孔和所述第二套刻标记中心重叠时，仅使得所述第二套刻标记落在所述第二通光孔范围内。

5.如权利要求3所述的测量运动台运动精度的测量装置，其特征在于，所述第一矩阵光阑及第二矩阵光阑由高透过率熔石英制成，除形成所述第一、第二通光孔外，其余部分的表面镀铬。

6.根据权利要求2所述测量运动台运动精度的测量装置，其特征在于，所述第一矩阵光阑及第二矩阵光阑的尺寸与所述测试掩模板的尺寸一致。

7.根据权利要求1所述的测量运动台运动精度的测量装置，其特征在于，所述测算出所述运动台的运动精度是通过手工方式测量，或者是通过套刻精度检测机构测量。