[发明专利]彩色滤光片和彩色滤光片的制造方法

权利要求书

1.一种彩色滤光片，其特征在于，包括：

基板；

位于所述基板上的挡墙型黑矩阵层，所述挡墙型黑矩阵层限定次像素区域；所述挡墙型黑矩阵层包括遮光层和位于所述遮光层上的挡墙层；

位于所述次像素区域的颜色层。

2.根据权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，所述挡墙型黑矩阵层的材料为含黑颜料的正型光刻胶。

3.根据权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，所述挡墙层的截面形状为梯形、矩形或三角形。

4.根据权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，所述挡墙层的边缘的范围不超出所述遮光层的边缘的范围。

5.根据权利要求1所述的彩色滤光片，其特征在于，所述挡墙层的宽度不超出所述遮光层的宽度。

6.根据权利要求1-5任一项所述的彩色滤光片，其特征在于，所述挡墙型黑矩阵层由一次曝光工艺形成。

7.一种彩色滤光片的制造方法，其特征在于，包括：

提供一基板；

在所述基板上设置一层黑矩阵材料；

对所述黑矩阵材料进行曝光，形成挡墙型黑矩阵层。

8.根据权利要求7所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述黑矩阵材料为含黑颜料的正型光刻胶。

9.根据权利要求8所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述对所述黑矩阵材料进行曝光，形成挡墙型黑矩阵层的步骤包括：

采用带半透膜的掩模板对所述光刻胶进行半掩膜曝光，所述掩模板包括完全曝光区、未曝光区以及灰度曝光区；

通过显影工艺，去掉被曝光的所述光刻胶，形成挡墙层、遮光层以及次像素区域，所述挡墙层对应所述未曝光区，所述遮光层对应所述灰度曝光区。

10.根据权利要求9所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，还包括：通过喷墨工艺，将彩色墨水分别喷入所述次像素区内，形成多个颜色层。

11.根据权利要求10所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述通过喷墨工艺，将彩色墨水分别喷入所述次像素区内，形成多个颜色层的步骤之前，还包括：

通过灰化工艺，处理所述挡墙层和所述遮光层，使得所述挡墙层和所述遮光层变薄为预定厚度。

12.根据权利要求9所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述掩模板中，所述未曝光区的周围设置有所述灰度曝光区，使得所述挡墙层的边缘的范围不超过所述遮光层的边缘的范围。

13.根据权利要求9所述的彩色滤光片的制造方法，其特征在于，所述掩模板中，所述灰度曝光区的灰度值预先设置，使得所述挡墙层的截面形状为梯形、矩形或三角形。