[发明专利]彩色滤光片和彩色滤光片的制造方法

说明书

技术领域

本发明涉及液晶显示器领域，特别是指一种彩色滤光片和彩色滤光片的制造方法。

背景技术

液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)为非主动发光的原件，必须透过内部的背光源提供光源，搭配驱动IC与液晶控制，形成黑、白两色的灰阶显示，再透过彩色滤光片(Color Filter，CF)的红(R)、绿(G)、蓝(B)三种颜色层形成彩色显示画面，因此，彩色滤光片为液晶显示器彩色化的关键零部件。

彩色滤光片为达到高分辨率、高色彩对比度以及为避免出现LCD各次像素间漏光现象的出现，利用黑矩阵(Black Matrix，BM)将红、绿、蓝三种颜色层分别隔开。传统技术中运用颜料分散法制造黑矩阵时，如果黑矩阵太厚会使黑矩阵曝光不完全，而且，传统碳黑树脂材料在曝光显影后表面的平整度不好，当以喷墨法制造彩色滤光片时，墨水较容易润湿不平整的表面，因此，要求黑矩阵的厚度相对较薄。但是较薄的黑矩阵容易使相邻的颜色墨水发生混色现象。

发明内容

本发明要解决的技术问题是提供一种彩色滤光片和彩色滤光片的制造方法，使得制造彩色滤光片的黑矩阵时，相邻的颜色墨水不会混色。

为解决上述技术问题，本发明的实施例提供技术方案如下：

一方面，提供一种彩色滤光片，包括：

基板；

位于所述基板上的挡墙型黑矩阵层，所述挡墙型黑矩阵层限定次像素区域；所述挡墙型黑矩阵层包括遮光层和位于所述遮光层上的挡墙层；

位于所述次像素区域中的颜色层。

所述挡墙型黑矩阵层的材料为含黑颜料的正型光刻胶。

所述挡墙层的截面形状为梯形、矩形或三角形。

所述挡墙层的边缘的范围不超出所述遮光层的边缘的范围。

所述挡墙层的宽度不超出所述遮光层的宽度。

所述挡墙型黑矩阵层由一次曝光工艺形成。

另一方面，提供一种彩色滤光片的制造方法，其特征在于，包括：

提供一基板；

在所述基板上设置一层黑矩阵材料；

对所述黑矩阵材料进行曝光，形成挡墙型黑矩阵层。

所述黑矩阵材料为含黑颜料的正型光刻胶。

所述对所述黑矩阵材料进行曝光，形成挡墙型黑矩阵层的步骤包括：

采用带半透膜的掩模板对所述光刻胶进行半掩膜曝光，所述掩模板包括完全曝光区、未曝光区以及灰度曝光区；

通过显影工艺，去掉被曝光的所述光刻胶，形成挡墙层、遮光层以及次像素区域，所述挡墙层对应所述未曝光区，所述遮光层对应所述灰度曝光区。

所述的彩色滤光片的制造方法，还包括：通过喷墨工艺，将彩色墨水分别喷入所述次像素区内，形成多个颜色层。

所述通过喷墨工艺，将彩色墨水分别喷入所述次像素区内，形成多个颜色层的步骤之前，还包括：

通过灰化工艺，处理所述挡墙层和所述遮光层，使得所述挡墙层和所述遮光层变薄为预定厚度。

所述掩模板中，所述未曝光区的周围设置有所述灰度曝光区，使得所述挡墙层的边缘的范围不超过所述遮光层的边缘的范围。

所述掩模板中，所述灰度曝光区的灰度值预先设置，使得所述挡墙层的截面形状为梯形、矩形或三角形。

本发明的实施例具有以下有益效果：彩色滤光片包括挡墙型黑矩阵层，所述挡墙型黑矩阵层包括遮光层和位于所述遮光层上的挡墙层，因此，制造彩色滤光片的黑矩阵时，相邻的颜色墨水由于挡墙层的隔离而不会发生混色现象。

附图说明

图1为本发明所述的彩色滤光片的挡墙型黑矩阵层的一实施例的俯视图；

图2为本发明所述的彩色滤光片的挡墙型黑矩阵层的另一实施例的俯视图；

图3为图1或图2所示的彩色滤光片的挡墙型黑矩阵层a-a’的截面示意图；

图4为图1或图2所示的彩色滤光片的挡墙型黑矩阵层b-b’的截面示意图；

图5为本发明所述的彩色滤光片的制备方法的一实施例的流程示意图；

图6(a)为采用本发明的彩色滤光片的制备方法中基板的示意图；

图6(b)为采用本发明的彩色滤光片的制备方法中基板上设置光刻胶的示意图；

图6(c)为采用本发明的彩色滤光片的制备方法中曝光的示意图；

图6(d)为采用本发明的彩色滤光片的制备方法中曝光后的示意图；

图6(e)为采用本发明的彩色滤光片的制备方法中显影后的示意图；

图6(f)为采用本发明的彩色滤光片的制备方法制造的彩色滤光片的示意图。