[发明专利]光致变换多画幅融合膜及其制作方法

权利要求书

1.光致变换多画幅融合膜，包含有基体（2）及基体上用光致变色或光致发光材料制成的多画幅图层（5），其特征在于：多画幅图层（5）至少包含两幅由不同激发条件材质制成的应激图符（4）。

2.根据权利要求1所述光致变换多画幅融合膜，其特征在于：所述多画幅图层（5）由光致变色或光致发光材料在基体（2）上凝结而成的应激像素点（6）构成，各组的应激像素点（6）集合构成各副应激图符（4）。

3.根据权利要求2所述光致变换多画幅融合膜，其特征在于：分属不同应激图符（4）的应激像素点（6）各自自成体系，利用应激像素点间的间隙相容排布，实现多画幅融合。

4.根据权利要求2所述光致变换多画幅融合膜，其特征在于：所述基体（2）采用多层结构，由多层基片（3）叠合而成，应激像素点（6）分布在每两基片（3）之间，使多画幅图层（5）也成为多层结构。

5.根据权利要求4所述光致变换多画幅融合膜，其特征在于：有位于不同层位的应激像素点（6）在投影关系上相互重叠。

6.根据权利要求3或4所述的光致变换多画幅融合膜，其特征在于：各应激像素点（6）的厚度和浓度可以不同。

7.一种制作光致变换多画幅融合膜的方法，其特征在于，包括以下步骤：

（a）将所选用的光致变色、光致发光材料进行粉碎，根据需要进行调配成应激粉备用；

（b）对基片进行预处理，包括清洁和干燥；

（c）在基片上均匀涂覆透明固化剂；

（d）将预制好的图案喷涂模板与基片非接触的对齐、保持，图案喷涂模板上镂出有孔洞；

（e）将制备好应激粉透过图案喷涂模板分撒到基片上，形成应激像素点；

（f）对形成应激像素点后的基片进行干燥、固化。

8.根据权利要求7所述的制作光致变换多画幅融合膜的方法，其特征在于，所述步骤（c）至（e）可多次重复进行，在形成一层应激像素点之后，叠合添置一层基片，在新添基片上再涂覆透明固化剂并形成新的一层应激像素点，直至制成全部所需应激像素点。

9.根据权利要求7所述制作光致变换多画幅融合膜的方法，其特征在于，所述光致变色、光致发光材料中，至少有一种光致变色或光致发光材料的激发光谱，与所用光致发光材料的发射光谱重叠，两者配合使用。