[发明专利]高密度等离子体化学气相淀积设备的腔体检漏方法

权利要求书

1.一种高密度等离子体化学气相淀积设备的腔体检漏方法，其特征在于：在生产工艺步骤中增加腔体检漏工艺，所述腔体检漏工艺自动执行并实时报警；当所述腔体检漏工艺得到的测量结果超标时，高密度等离子体化学气相淀积设备发出警报并使所述生产工艺步骤停止执行；当所述腔体检漏工艺得到的测量结果正常时，所述生产工艺步骤继续执行。

2.如权利要求1所述高密度等离子体化学气相淀积设备的腔体检漏方法，其特征在于：所述腔体检漏工艺包括如下步骤：

步骤一、将所述高密度等离子体化学气相淀积设备的腔体抽到底压；

步骤二、将所述腔体的所有阀门关闭并保持一段时间；

步骤三、对所述腔体的压强进行测量；当所测量的压强值小于压强规格值时，所述测量结果正常；当所测量的压强值大于等于压强规格值时，所述测量结果超标。

3.如权利要求2所述高密度等离子体化学气相淀积设备的腔体检漏方法，其特征在于：步骤二中的保持时间根据所对应的生产工艺分别进行设定。

4.如权利要求3所述高密度等离子体化学气相淀积设备的腔体检漏方法，其特征在于：步骤二中的保持时间设定为10秒～60秒。

5.如权利要求2所述高密度等离子体化学气相淀积设备的腔体检漏方法，其特征在于：步骤三中所述压强规格值根据所对应的生产工艺分别进行设定。

6.如权利要求5所述高密度等离子体化学气相淀积设备的腔体检漏方法，其特征在于：步骤三中所述压强规格值设定为1毫托～3毫托。