[发明专利]钛基掺硼金刚石涂层电极的制备方法

权利要求书

1.一种钛基掺硼金刚石涂层电极的制备方法，其特征是它包括以下步骤:

首先，用粒度为W40和W10的金相砂纸分别对作为基底材料（1）的纯钛板表面进行打磨各5-10分钟；

其次，将经过研磨的纯钛板置于酒精中超声清洗2-3次，每次10分钟，完成钝钛板的溅射预处理；

第三，将经过溅射预处理的钝钛板置于溅射装置中进行溅射，在钝钛板表面形成溅射过渡层（2）；

第四，将溅射有过渡层（2）的钝钛板放入摩尔浓度为5-10%的盐酸溶液中进行酸洗，控制酸洗温度为70-90℃；

第五，将酸洗过的钝钛板放入由0.2～1微米的金刚石粉末配制的酒精悬浊液中进行超声清洗至少30分钟，酒精悬浊液的浓度为1g/100ml，以便在溅射过渡层（2）上进行种晶；种晶结束后再用纯酒精进行超声清洗2-3次，每次2-4分钟，酒精超声清洗结束后再进行吹干处理，得到经过溅射过渡层（2）经过预处理的纯钛板；

第六，利用CVD法在上述经过预处理的溅射过渡层（2）上沉积掺硼金刚石，在溅射过渡层（2）上形成结合强度满足要求的掺硼金刚石层（3）。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征是所述的溅射工艺采用直流磁控溅射技术，溅射靶材为铌或钽，磁控溅射参数为：电流0.5～1.5A，电压100～140V，本底真空0.001～0.01Pa，工作气体为氩气，气压为0.4～1.5Pa，基底材料温度为400～600℃，溅射半径65mm，靶材与基体的距离12-14cm。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征是所述的CVD法沉积掺硼金刚石层的工艺参数为：热丝到衬底的距离6~8mm，热丝温度2500~2700℃，衬底温度700~900℃，碳源浓度0.5~2%，反应气压2~3kPa；掺硼方式为固体、液体或气体硼源掺杂，掺杂浓度为6000~10000ppm。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征是所述的溅射过渡层（2）的厚度为100~500nm，掺硼金刚石层（3）的厚度为5~10μm。

5.根据权利要求1所述的方法，其特征是所述的将酸洗过的钝钛板放入由0.2～1微米的两种不同粒径的金刚石粉末配制而成的酒精悬浊液中进行超声清洗至少30分钟。