[发明专利]电离层小尺度结构的雷达成像方法有效
申请号: | 201110217010.7 | 申请日: | 2011-07-29 |
公开(公告)号: | CN102901963A | 公开(公告)日: | 2013-01-30 |
发明(设计)人: | 李芳;李廉林;刘艳丽 | 申请(专利权)人: | 中国科学院电子学研究所 |
主分类号: | G01S13/90 | 分类号: | G01S13/90 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 周国城 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电离层 尺度 结构 雷达 成像 方法 | ||
1.一种电离层小尺度结构的雷达成像方法,其特征在于:
步骤一:地基雷达脉冲线性调频信号照射电离层并接受经电离层散射的回波数据,其中τ为快时间即距离时间,Tr为脉冲持续时间,为雷达脉冲包络,fc为发射信号的载频,Kr表示距离向调频斜率;
步骤二:根据雷达回波数据计算三类相关函数;
步骤三:对多站雷达工作系统,用下式:
对单站雷达工作系统,用下式:
估计电离层不规则体高度zs;
步骤四:对多站雷达工作系统,用式:
和式:
对单站雷达工作系统,用式:
和式:
步骤五:将步骤四计算所得结果输出,进行电离层小尺度结构的雷达成像。
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