[发明专利]含咔唑的有机半导体材料及其制备方法和应用无效

专利信息
申请号: 201110226856.7 申请日: 2011-08-09
公开(公告)号: CN102924518A 公开(公告)日: 2013-02-13
发明(设计)人: 周明杰;王平;梁禄生;张娟娟 申请(专利权)人: 海洋王照明科技股份有限公司;深圳市海洋王照明技术有限公司
主分类号: C07F9/572 分类号: C07F9/572;H01L51/00;H01L51/54;H01L51/46;H01L51/30
代理公司: 深圳中一专利商标事务所 44237 代理人: 张全文
地址: 518052 广东省深*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 含咔唑 有机半导体 材料 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种含咔唑的有机半导体材料,其分子结构通式为下述(I):

(I)式中,R为烷氧基。

2.根据权利要求1所述的含咔唑的有机半导体材料,其特征在于:所述烷氧基中碳原子数为C1~C8

3.一种含咔唑的有机半导体材料制备方法,包括如下步骤:

获取如下结构式表示的化合物A,其中,R为烷氧基,

A:

在无水、无氧环境和有机溶剂的体系中,在-78℃~-70℃温度下,先将化合物A与正丁基锂混合反应,再加入二苯基氯化膦,升温至20~25℃下继续反应,得到中间产物;

将所述中间产物溶解,并加入氧化剂进行氧化反应,得到如下结构通式(I)表示的含咔唑的有机半导体材料,

4.根据权利要求3所述的含咔唑的有机半导体材料制备方法,其特征在于:所述正丁基锂、化合物A和二苯基氯化膦三反应物的摩尔比为2∶1∶2~2.5∶1∶2.5。

5.根据权利要求3所述的含咔唑的有机半导体材料制备方法,其特征在于:所述化合物A与正丁基锂反应的时间为1~3小时。

6.根据权利要求3所述的含咔唑的有机半导体材料制备方法,其特征在于:在所述20~25℃下继续反应的时间为3~12小时。

7.根据权利要求3所述的含咔唑的有机半导体材料制备方法,其特征在于:所述氧化剂为H2O2

8.根据权利要求7所述的含咔唑的有机半导体材料制备方法,其特征在于:所述所述H2O2与所述中间产物的摩尔比为:100∶1~160∶1。

9.根据权利要求3所述的含咔唑的有机半导体材料制备方法,其特征在于:所述有机溶剂为四氢呋喃、苯、环己烷、乙醚中的至少一种。

10.根据权利要求1至2任一所述的含咔唑的有机半导体材料在有机电致发光器、有机太阳能电池、有机场效应晶体管、有机光存储器、有机非线性材料或/和有机激光器中的应用。

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