[发明专利]一种摩擦动能洗涤制备高纯粉末的方法无效

专利信息
申请号: 201110308315.9 申请日: 2011-10-12
公开(公告)号: CN103043730A 公开(公告)日: 2013-04-17
发明(设计)人: 许开华;苏陶贵;何显达;王勤;陈艳红;杨柳;周启毛 申请(专利权)人: 荆门市格林美新材料有限公司
主分类号: C01G51/04 分类号: C01G51/04;C01G53/06;B22F1/00
代理公司: 深圳市博锐专利事务所 44275 代理人: 张明
地址: 448124 湖北*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 摩擦 动能 洗涤 制备 高纯 粉末 方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及粉末洗涤,具体涉及一种摩擦动能洗涤制备高纯粉末的方法。

背景技术

随着科学技术的发展,对粉末材料纯度、粒径等性能提出了更高要求,粉末纯度、粒径除与原料纯度、生产工艺有关外,与粉末洗涤也有很大关系,如离心洗涤、带滤机洗涤等静态洗涤方式只能把粉末表面吸附杂质洗去,对团聚颗粒等包裹在颗粒内部的杂质无法洗涤。即使将粉末干燥后再浆化洗涤,洗涤效果也很有限,如中国专利CN1931728A“一种脱除碳酸镍中钠的方法”,洗涤后碳酸镍中钠含量仍高达0.09%。

发明内容

本发明为解决现有技术的上述问题,提供一种能将团聚颗粒等包裹在颗粒内部杂质洗涤掉,大大降低杂质含量,得到高纯度粉末的洗涤方法。

本发明的摩擦动能洗涤制备高纯粉末的方法,其特征是,包括以下步骤:

(1)先将待洗粉末用纯水洗去表面吸附杂质,脱水或干燥;

(2)然后将粉末按物料∶磨球=1∶1~10加入直径1~10mm的球磨介质,球磨转速50~250r/min、球磨过程中连续通入30~90℃纯水(纯水通入流量优选2-20L/min),控制物料在球磨机内停留时间0.5~10小时;

(3)将球磨产物再用纯水进行洗涤,干燥,得到高纯粉末。

优选地,

步骤(1)纯水洗涤时纯水温度为60~90℃,洗涤时间为1.0~2.5小时。

步骤(2)中球磨转速为180~200r/min,球磨过程中连续通入60~80℃纯水。

步骤(3)纯水洗涤时纯水温度为60~90℃,洗涤时间为1.0~2.5小时。

与现有技术相比,本发明的摩擦动能洗涤制备高纯粉末的方法,能将颗粒内部包裹杂质充分暴露出来,得以洗涤,得到粒径均匀、纯度高的洗涤产物。

具体实施方式

以下提供本发明的一些实施例,以助于进一步理解本发明,但本发明的保护范围并不仅限于这些实施例。

实施例1

摩擦动能洗涤制备高纯粉末的方法:洗涤Co(OH)2降钠:

Co(OH)2制备由钴盐与氢氧化钠反应,反应速度快、颗粒细,且反应过程易出现局部过浓,形成钠离子包裹在颗粒内部,导致洗涤困难。

将氢氧化钴沉淀物用离心机80℃纯水洗涤2小时,脱水、干燥,检测氢氧化钴粉末中钴含量为62.14%,钠含量为0.026%。将上述干燥后的氢氧化钴按固液比1∶4纯水浆化,加入球磨机内,球磨介质直径1-5mm,转速200r/min,球磨过程中通入60℃热水,热水通入流量为5L/min,球磨3小时,将氢氧化钴浆料放出,离心机脱水,80℃洗涤2小时,干燥,其钠含量为0.009%。

将洗涤产物按上述工艺再次进行摩擦动能洗涤和离心洗涤、干燥等操作,氢氧化钴粉末中钠含量为0.0034%。

实施例2

摩擦动能洗涤制备高纯粉末的方法:洗涤NiCO3降钠

碳酸镍由镍盐与碳酸钠或碳酸氢铵反应制备,碳酸氢铵做沉淀剂存在镍沉淀不完全,碳酸钠做沉淀剂存在反应产物中钠离子偏高。

取碳酸镍粉末,其镍含量为51.03%,钠含量0.12%,85℃纯水浆化,加入球磨机内,球磨介质直径1-5mm,转速150r/min,球磨过程中通入80℃热水,热水通入流量为10L/min,球磨4小时,碳酸镍浆料再用离心机85℃纯水洗涤2小时,脱水、120℃干燥,测其镍含量为51.68%,钠含量为0.015%。按上述工艺再球磨和离心洗涤一次,120℃干燥,测其镍含量为51.32%,钠含量为0.0058%。

实施例3

摩擦动能洗涤制备高纯粉末的方法:洗涤钴粉提高其纯度

由废旧锂电池材料回收制备钴粉,浸出液中锂含量高,在萃取分离过程中,因共萃与夹带而影响锂分离效果,在随后的沉淀过程中,部分锂杂质会吸附在碳酸钴或草酸钴表面难以除去,还原后导致钴粉中杂质锂偏高。

取杂质锂含量为0.0109%的钴粉,用纯水浆化,按球∶料比5-10∶1放于球磨机内球磨1-10小时,再用离心机热纯水洗涤1小时,干燥、氢还原得到钴粉。测其钴粉杂质锂含量为0.0041%。

由上可知,本发明的方法,显著地降低了粉末中杂质的含量,可以制备出纯度更高的高纯粉末。

上述实施例为本发明较佳的实施方式,但本发明的实施方式并不受上述实施例的限制,其他的任何未背离本发明的精神实质与原理下所作的改变、修饰、替代、组合、简化,均应为等效的置换方式,都包含在本发明的保护范围之内。

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