[发明专利]一种单片式电容触摸屏及其制造方法

权利要求书

1.一种单片式电容触摸屏，包括透明基板，以及设置在透明基板背面的感测电极层和周边线路，所述感测电极层包括图形化的第一导电膜，以及与第一导电膜相结合的跳线结构，其特征在于：

还包括第二导电膜，第二导电膜由导电氧化物材料制作而成；

所述第一导电膜包括：

多个第一电极队列，每个第一电极队列由多个第一电极块按第一方向排列而成；在每两个相邻的第一电极队列之间定义出的第二电极队列配置区；多个第二电极队列，每个第二电极队列由多个设置在第二电极队列配置区的第二电极块按不同于第一方向的第二方向排列而成；

所述跳线结构包括：

底部连接、绝缘垫块和顶部连接；底部连接附着在所述透明基板上；绝缘垫块由绝缘层图形化而成，绝缘垫块设于底部连接的外侧；顶部连接跨过绝缘垫块，并与底部连接交叉设置；

跳线结构设置在每个第一电极队列与第二电极队列的交错位置；同一第一电极队列的相邻两个第一电极块通过底部连接相互连接；相应的第二电极队列的相邻两个第二电极块通过顶部连接相互连接；

底部连接由第二导电膜形成，顶部连接由第一导电膜形成。

2.如权利要求1所述的单片式电容触摸屏，其特征是：所述第二导电膜由透明的导电氧化物制作而成。

3.如权利要求1或2所述的单片式电容触摸屏，其特征是：还包括低电阻膜，低电阻膜设置在第一导电膜的周边并与第一导电膜电连接，并且低电阻膜采用金属膜制作而成；周边线路由低电阻膜构成，或者是周边线路由低电阻膜和第一导电膜构成，或者是周边线路由低电阻膜和第二导电膜构成，或者是周边线路由低电阻膜、第一导电膜和第二导电膜构成。

4.如权利要求3所述的单片式电容触摸屏，其特征是：所述低电阻膜设置在第一导电膜、绝缘层、或第二导电膜的内侧。

5.如权利要求4所述的单片式电容触摸屏，其特征是：所述低电阻膜设置在绝缘层的内侧，并且低电阻膜被绝缘层完全覆盖。

6.如权利要求3所述的单片式电容触摸屏，其特征是：还包括保护层，保护层覆盖在感测电极层、周边线路的外侧。

7.一种单片式电容触摸屏的制造方法，包括制作感测电极层和周边线路，其特征在于感测电极层的制作包括如下步骤：

步骤一、在透明基板的内侧面上沉积第二导电膜，并且对第二导电膜进行图形化，形成每个跳线结构的底部连接；

步骤二、涂布绝缘层，并且对绝缘层进行图形化，形成每个跳线结构的绝缘垫块；

步骤三、沉积第一导电膜，并且对第一导电膜进行图形化，形成第一电极块、第二电极块以及顶部连接。

8.如权利要求7所述的制造方法，其特征是：在步骤一中，由第二导电膜形成周边线路；或者是，在步骤三中，由第一导电膜形成周边线路；或者是，分别在步骤一和步骤三中，由第二导电膜和第一导电膜形成周边线路的第一层和周边线路的第二层。

9.如权利要求7所述的制造方法，其特征是：所述周边线路的制作包括在步骤一之前、或步骤三之后、或步骤一与步骤三之间制作低电阻膜，并形成周边线路。