[发明专利]曝光装置与图像形成装置有效
申请号: | 201110350148.4 | 申请日: | 2011-11-08 |
公开(公告)号: | CN102681399A | 公开(公告)日: | 2012-09-19 |
发明(设计)人: | 三锅治郎;清水敬司;涌井美帆子;小笠原康裕;林和广;立石彰;安田晋;谷口元树 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
主分类号: | G03G15/043 | 分类号: | G03G15/043;G03G15/00 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 曝光 装置 图像 形成 | ||
1.一种曝光装置,该曝光装置包括:
至少一个发光元件,其设置于基板上以在该基板的法线方向上发光;
至少一个全息图元素,其被记录在设置于所述基板上的记录层上,以与所述发光元件中的每一个形成组,衍射从所述发光元件发出的光,并且将衍射光会聚在存在于所述发光元件的法线及被曝光面上的聚光点;以及
至少一个光抑制部,其设置在所述组处并且布置在连接所述发光元件和所述聚光点的直线上,使得被所述全息图元素衍射的光通过所述光抑制部的外侧并会聚在所述聚光点,从而抑制未被所述全息图元素衍射的、从所述发光元件向所述聚光点笔直前进的零次光的透射。
2.根据权利要求1所述的曝光装置,其中,所述光抑制部拦截或衰减入射光以抑制所述零次光的透射。
3.根据权利要求1所述的曝光装置,其中,所述光抑制部与所述记录层的光入射侧或光出射侧相邻地设置。
4.根据权利要求2所述的曝光装置,其中,所述光抑制部与所述记录层的光入射侧或光出射侧相邻地设置。
5.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置,其中,按照使衍射光的光轴与连接所述发光元件和所述聚光点的直线平行的方式来记录所述全息图元素。
6.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置,其中,按照使衍射光的光轴与连接所述发光元件和所述聚光点的直线交叉的方式来记录所述全息图元素。
7.根据权利要求6所述的曝光装置,其中,所述组由一个发光元件和多个全息图构成,并且从所述多个全息图衍射的衍射光的多个光轴分别在所述聚光点处与连接所述发光元件和所述聚光点的直线交叉。
8.根据权利要求5所述的曝光装置,其中,所述记录层相对于所述基板倾斜地设置。
9.根据权利要求6所述的曝光装置,其中,所述记录层相对于所述基板倾斜地设置。
10.根据权利要求1至4中任一项所述的曝光装置,其中,所述光抑制部是吸收入射光的光吸收体、反射入射光的反射体、在多个方向上漫射入射光的漫射体、在预定方向上偏转入射光的偏光元件、或在预定方向上衍射入射光的衍射格栅。
11.一种曝光装置,该曝光装置包括:
基板,多个发光元件在该基板的法线方向上发光并且在第一方向上排列;
记录层,其设置在所述基板上并且具有分别与所述多个发光元件相对应的全息图元素,其中,所述全息图元素中的对应全息图元素衍射从所述多个发光元件中的每一个发光元件发出的光,并且将所述光会聚在位于各个发光元件的法线与被曝光面之间的交点处的聚光点上;以及
一个光抑制部,其设置成在所述第一方向上延伸,并且布置在被曝光面和所述记录层之间,使得被所述多个全息图元素中的每一个全息图元素衍射的光通过所述光抑制部的外侧并会聚在所述聚光点,以抑制未被相应的全息图元素衍射的、从所述发光元件向所述聚光点笔直前进的零次光的透射。
12.一种图像形成装置,该图像形成装置包括:
权利要求1至4和11中任一项所述的曝光装置;以及
感光体,其设置成与所述曝光装置隔开操作距离,在与所述第一方向交叉的第二方向上相对于所述曝光装置移动,并且被所述曝光装置根据图像数据进行扫描和曝光,使得在所述感光体中写入图像。
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