[发明专利]含有具有垂直磁各向异性膜的数据记录层的磁存储器有效

专利信息
申请号: 201110385132.7 申请日: 2011-11-28
公开(公告)号: CN102479541A 公开(公告)日: 2012-05-30
发明(设计)人: 刈屋田英嗣;末光克巳;谷川博信;森馨;铃木哲广;永原圣万;尾崎康亮;大岛则和 申请(专利权)人: 瑞萨电子株式会社
主分类号: G11C11/15 分类号: G11C11/15;G11C11/16
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人: 李兰;孙志湧
地址: 日本神*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 含有 具有 垂直 各向异性 数据 记录 磁存储器
【权利要求书】:

1.一种磁存储器,包括:

磁化固定层,所述磁化固定层具有垂直磁各向异性,所述磁化固定层的磁化方向是固定的;

层间电介质;

底层,所述底层形成在所述磁化固定层和所述层间电介质的上面上;和

数据记录层,所述数据记录层形成在所述底层的上面上,并且具有垂直磁各向异性,

其中所述底层包括:

第一磁底层;和

非磁底层,所述非磁底层形成在所述第一磁底层上,并且

其中所述第一磁底层形成为具有下述厚度,所述厚度使得所述第一磁底层在所述第一磁底层的形成在所述层间电介质上的部分中没有呈现面内磁各向异性。

2.根据权利要求1所述的磁存储器,其中所述第一磁底层的厚度被调整成使得所述第一磁底层在所述第一磁底层的形成在所述层间电介质上的部分中没有呈现铁磁性。

3.根据权利要求2所述的磁存储器,其中所述第一磁底层包括NiFe作为主要组分,并且包括从Zr、Ta、W、Hf和V所组成的组中选择的至少一种非磁性元素。

4.根据权利要求3所述的磁存储器,其中所述第一磁底层具有在0.5至3nm范围内的厚度。

5.根据权利要求4所述的磁存储器,其中所述第一磁底层的厚度小于2nm。

6.根据权利要求3所述的磁存储器,其中所述第一磁底层中的所述至少一种非磁性元素的浓度在10至25原子百分比的范围内。

7.一种磁存储器,包括:

磁化固定层,所述磁化固定层具有垂直磁各向异性,所述磁化固定层的磁化方向是固定的;

层间电介质;

底层,所述底层形成在所述磁化固定层和所述层间电介质的上面上;和

数据记录层,所述数据记录层形成在所述底层的上面上,并且具有垂直磁各向异性,

其中所述底层包括:

第一磁底层;和

非磁底层,所述非磁底层形成在所述第一磁底层上,并且

其中所述第一磁底层包括NiFe作为主要组分,并且包括从Zr、Ta、W、Hf和V所组成的组中选择的至少一种非磁性元素,并且

其中所述第一磁底层的厚度在0.5至3nm的范围内。

8.根据权利要求7所述的磁存储器,其中所述第一磁底层的厚度小于2nm。

9.根据权利要求7所述的磁存储器,其中所述第一磁底层中的所述至少一种非磁性元素的浓度在10至25原子百分比的范围内。

10.根据权利要求1所述的磁存储器,其中所述第一磁底层由固有地呈现面内磁各向异性的磁性材料形成,具有使得所述第一磁底层的布置在所述层间电介质上的部分呈现垂直磁各向异性的厚度。

11.根据权利要求10所述的磁存储器,其中所述第一磁底层包括Co或Fe作为主要组分,并且包括从Zr、Ta、W、Hf和V所组成的组中选择的至少一种非磁性元素。

12.根据权利要求11所述的磁存储器,其中所述第一磁底层的厚度在0.5至3nm范围内。

13.一种磁存储器,包括:

磁化固定层,所述磁化固定层具有垂直磁各向异性,所述磁化固定层的磁化方向是固定的;

层间电介质;

底层,所述底层形成在所述磁化固定层和所述层间电介质的上面上;和

数据记录层,所述数据记录层形成在所述底层的上面上,并且具有垂直磁各向异性,

其中所述底层包括:

第一磁底层;和

非磁底层,所述非磁底层形成在所述第一磁底层上,并且

其中所述第一磁底层包括Co或Fe作为主要组分,并且包括从Zr、Ta、W、Hf和V所组成的组中选择的至少一种非磁性元素,并且

其中所述第一磁底层的厚度在0.5至3nm的范围内。

14.根据权利要求1所述的磁存储器,进一步包括布置在所述非磁底层和所述数据记录层之间的第二磁底层,

其中所述第二磁底层包括至少一个膜堆叠,所述至少一个膜堆叠包括Pt或Pd的层和Fe、Co或Ni的层。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于瑞萨电子株式会社,未经瑞萨电子株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201110385132.7/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top