[发明专利]一种光学邻近修正方法

权利要求书

1.一种光学邻近修正方法，其特征在于，所述修正方法包括步骤：

根据工艺规格确定光刻工艺参数；

根据所述光刻工艺参数确定光学邻近修正模型，建立光学邻近修正的运算程序；

提供一待光学邻近修正的图形，根据一图形设计规则，确定该图形中不符合设计规则的部分；

对不符合设计规则的部分做一图形预处理，将该些部分的图形规则化，并得到预处理之后的图形；

对所述预处理之后的图形运行所述光学邻近修正的运算程序，得到该图形的修正图形。

2.如权利要求1所述的光学邻近修正方法，其特征在于：所述光刻工艺参数包括曝光光路的光学参数、光刻胶材料的材料参数以及刻蚀工艺的化学参数。

3.如权利要求1所述的掩模图形修正方法，其特征在于：所述图形设计规则为：在图形中，相邻两条连线的夹角为45度整数倍。

4.如权利要求1所述的掩模图形修正方法，其特征在于：所述确定不符合设计规则的部分图形包括如下步骤：

将待光学邻近修正的图形输入一计算机中，并将该图形文件转化成一种能够进行图形处理的格式；

然后通过一图形处理软件，识别出图形中所有的线条；

计算该些线条中任意两条相邻直线的夹角，并判断该夹角值是否为45度的整数倍；

最后将判断结果为否的部分进行标识，该部分区域所在的图形即为不符合设计规则的部分图形。

5.如权利要求1所述的掩模图形修正方法，其特征在于：所述图形预处理是依赖软件级的处理方式，将所述被不符合设计规则的部分图形以规则图形进行替换。

6.如权利要求5所述的掩模图形修正方法，其特征在于：所述替换是利用图形处理软件，对不符合设计规则的部分计算后，画出符合规则的规则图形，然后以规则图形进行替换。

7.如权利要求5所述的掩模图形修正方法，其特征在于：所述替换是根据图形所需的工艺及尺寸，直接调用一符合原图形数据的数据库中的规则图形进行替换。