[实用新型]用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器有效
申请号: | 201120073833.2 | 申请日: | 2011-03-18 |
公开(公告)号: | CN202148190U | 公开(公告)日: | 2012-02-22 |
发明(设计)人: | 严大洲;毋克力;肖荣晖;汤传斌;谢正和;杜俊平;谢冬晖;汪绍芬;郭富东 | 申请(专利权)人: | 中国恩菲工程技术有限公司 |
主分类号: | C01B33/12 | 分类号: | C01B33/12;C01B7/01 |
代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 宋合成 |
地址: | 100038*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 多晶 副产物 氯化 处理 反应器 | ||
1.一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器,其特征在于,包括:
反应器本体,所述反应器本体内限定有反应腔,所述反应器本体的上部设有四氯化硅-空气入口和氢气入口,所述反应器本体的底部设有反应器出口;
嘴套,所述嘴套套设在所述反应器本体的下端以与所述反应器本体限定出向下开口的环形空间;
与所述嘴套相连以向所述环形空间内供给氢气的环隙氢气进口管;和
分布器,所述分布器设置在所述反应腔内用于均匀分布从所述四氯化硅-空气入口和所述氢气入口供给到反应腔内的四氯化硅-空气和氢气。
2.根据权利要求1所述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器,其特征在于,所述反应器本体包括:
嘴体,所述四氯化硅-空气入口设置在所述嘴体的侧面且所述氢气入口设置在所述嘴体的顶部;
嘴身,所述嘴身的上端与所述嘴体的下端相连;
嘴尖,所述嘴尖的上端与所述嘴身的下端相连,所述嘴尖的下端敞开以形成所述反应器出口。
3.根据权利要求2所述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器,其特征在于,所述嘴套安装在所述嘴尖的下端且所述嘴套的下端与所述嘴尖的下端平齐。
4.根据权利要求3所述的用于多晶硅生产副产物四氯化硅处理的反应器,其特征在于,所述嘴套的下部为锥形。
5.根据权利要求2所述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器,其特征在于,所述嘴身与所述嘴体螺纹连接且所述嘴尖与所述嘴身螺纹连接。
6.根据权利要求2所述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器,其特征在于,所述分布器包括:
撑杆;
多个叶片,每个叶片的一端与所述撑杆相连且所述多个叶片沿撑杆的周向间隔开。
7.根据权利要求6所述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器,其特征在于,所述多个叶片分多组,每组中的叶片沿撑杆的周向间隔开布置,且多组叶片沿上下方向间隔开。
8.根据权利要求7所述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器,其特征在于,位 于最下面的一组叶片在上下方向上邻近所述嘴套的上端。
9.根据权利要求6所述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器,其特征在于,所述嘴体、嘴身和所述嘴尖分别为圆筒形且它们的内径依次减小。
10.根据权利要求9所述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器,其特征在于,所述叶片分为三组,其中位于最上面的一组叶片邻近所述嘴尖的上端,位于最下面的一组叶片邻近所述嘴套的上端。
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