[实用新型]用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种反应器，尤其是涉及一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器。

背景技术

近年来，随着硅太阳能电池的发展，多晶硅市场得以迅猛增长。目前国际上采用的多晶硅制备方法均为改良的西门子法，即采用三氯氢硅氢化还原，其副产物主要是四氯化硅，生产1吨多晶硅所产生的副产物四氯化硅大约为12～18吨，因此如何处理副产物四氯化硅已经成为多晶硅工业发展的一大瓶颈。

实用新型内容

本实用新型的一个目的在于提出一种用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器，该反应器可以用在用多晶硅副产物四氯化硅生产二氧化硅中，四氯化硅、氧气和氢气在该反应器内发生反应以生成氯化氢和纳米级二氧化硅，该反应器结构简单，成本低。

根据本实用新型的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器，包括：反应器本体，所述反应器本体内限定有反应腔，所述反应器本体的上部设有四氯化硅-空气入口和氢气入口，所述反应器本体的底部设有反应器出口；嘴套，所述嘴套套设在所述反应器本体的下端以与所述反应器本体限定出向下开口的环形空间；与所述嘴套相连以向所述环形空间内供给氢气的环隙氢气进口管；和分布器，所述分布器设置在所述反应腔内用于均匀分布从所述四氯化硅-空气入口和所述氢气入口供给到反应腔内的四氯化硅-空气和氢气。

根据本实用新型的反应器，用在用多晶硅副产物四氯化硅生产二氧化硅中，四氯化硅、氧气和氢气在该反应器内发生反应以生成氯化氢和纳米级二氧化硅，该反应器结构简单，成本低，反应充分，反应效果好。

另外，根据本实用新型上述的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器还可以具有如下附加的技术特征：

所述反应器本体包括：嘴体，所述四氯化硅-空气入口设置在所述嘴体的侧面且所述氢气入口设置在所述嘴体的顶部；嘴身，所述嘴身的上端与所述嘴体的下端相连；嘴尖，所述嘴尖的上端与所述嘴身的下端相连，所述嘴尖的下端敞开以形成所述反应器出口。

所述嘴套安装在所述嘴尖的下端且所述嘴套的下端与所述嘴尖的下端平齐。

所述嘴套的下部为锥形。

所述嘴身与所述嘴体螺纹连接且所述嘴尖与所述嘴身螺纹连接。

所述分布器包括：撑杆；多个叶片，每个叶片的一端与所述撑杆相连且所述多个叶片沿撑杆的周向间隔开。

所述多个叶片分多组，每组中的叶片沿撑杆的周向间隔开布置，且多组叶片沿上下方向间隔开。

位于最下面的一组叶片在上下方向上邻近所述嘴套的上端。

所述嘴体、嘴身和所述嘴尖分别为圆筒形且它们的内径依次减小。

所述叶片分为三组，其中位于最上面的一组叶片邻近所述嘴尖的上端，位于最下面的一组叶片邻近所述嘴套的上端。

本实用新型的附加方面和优点将在下面的描述中部分给出，部分将从下面的描述中变得明显，或通过本实用新型的实践了解到。

附图说明

本实用新型的上述和/或附加的方面和优点从结合下面附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1是具有根据本实用新型实施例的反应器的多晶硅副产物四氯化硅处理设备的框图；

图2是根据本实用新型实施例的用于多晶硅副产物四氯化硅处理的反应器的示意图；

图3是图2所示反应器的分布器的示意图；

图4是图3所示分布器的局部示意图，其中示出了叶片的排列方式；

图5是上述多晶硅副产物四氯化硅处理设备的收集冷却器的示意图；

图6是图5所示收集冷却器的内壳的示意图；

图7是图5所示收集冷却器的旋体的示意图；

图8是图5所示收集冷却器的外壳的示意图；

图9是上述多晶硅副产物四氯化硅处理设备的聚集器的示意图；

图10是图9所示聚集器的俯视示意图；

图11是图9所示聚集器的聚集管的示意图；

图12是上述多晶硅副产物四氯化硅处理设备的脱酸器的示意图；

图13是图12所示脱酸器的扩大段的示意图；

图14是图12所示脱酸器的炉身的示意图；和

图15是上述多晶硅副产物四氯化硅处理设备的操作流程图。

具体实施方式

下面详细描述本实用新型的实施例，所述实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的元件或具有相同或类似功能的元件。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本实用新型，而不能理解为对本实用新型的限制。