[实用新型]一种电容式触摸屏的触控面板

说明书

技术领域

本实用新型触摸屏领域，尤其涉及一种电容式触摸屏的触控面板。

背景技术

电容式触摸屏实现了多点触控以及便于操作的放大、缩小、旋转功能，因此越来越受人们青睐，但成本较高成为目前电容式触摸屏推广的一个较大阻碍，其中触控面板的制造成本较高是非常重要的原因。参见图1、图2、图3、图4中所示的现有的双面ITO（氧化铟锡）导电走线电容式触控面板，ITO导电走线11、12分布在基板的两面，图2示出了基板14背面的ITO导电走线12（X方向），图3示出了基板14的正面ITO导电走线11（Y方向），图4为其剖面图。基板14的正面和背面的ITO导电层方块电阻较高，一般为80～100Ω/□（Ω/□为ITO膜阻抗单位，是指一个正方形的薄膜导电材料边到边之间的电阻），主要是因为ITO膜的方块电阻在80Ω/□时，ITO膜的透光率约为88%左右，相对较高，可以提高整个触摸屏产品的透光率，但是由于基板14的背面边缘处的ITO导电走线12比较细，导致细线处的正上方必须增加一层金属膜线(Mo-Al-Mo或Mo或Cu) 13，以降低此处ITO的走线电阻，金属膜线13一般是采用真空镀膜的方法来制备的，这直接导致触控面板的成本材料成本增高；另一方面，增加金属膜线13后，金属膜线13和ITO之间的粘附力难以控制，生产过程中金属膜线13容易脱落，导致良率下降；此外，由于增加金属膜线13后，金属膜线13和ITO膜都需要刻蚀，也就是要分多次镀膜，同时，也要分多次刻蚀，工艺过程非常复杂，良率难以控制；以上几点都导致目前的触控功能基板的成本较高。

发明内容

本实用新型的目的是提供一种电容式触摸屏的触控面板，旨在解决现有双面多层导电膜结构触控面板工艺复杂、成本高的技术缺陷。

为实现上述实用新型目的，本实用新型提供的一种电容式触摸屏的触控面板包括基板以及设置于基板正面的透明导电膜以及设置于基板背面的透明导电膜。

进一步的，所述设置于基板正面的透明导电膜以及设置于基板背面的透明导电膜均为ITO透明导电膜。

进一步的，所述设置于基板背面的透明ITO导电膜的方块电阻为5～30Ω/□。

进一步的，所述设置于基板背面的透明ITO导电膜的方块电阻为10～30Ω/□。

进一步的，所述设置于基板正面的透明ITO导电膜的方块电阻为5Ω/□～100Ω/□。

进一步的，所述设置于基板正面的透明ITO导电膜的方块电阻为60Ω/□～100Ω/□。

进一步的，所述基板正面的透明ITO导电膜以及基板背面的透明ITO导电膜上分别光刻有导电走线。

进一步的，其特征在于，所述导电走线的图案为正交的长条形集成方块点状。

进一步的，所述导电走线的图案为套合的菱形或者套合的六边形。

进一步的，所述基板为玻璃基板。

相比于现有技术，本实用新型提供的电容式触摸屏的触控面板通过将基板背面的ITO导电膜的方块电阻设置为5～30Ω/□，省略了背面的金属膜线，只需要刻蚀两次ITO线路，简化了产品的工艺流程，其良率可以得到大大提高，切实降低了触控功能面板的成本。

附图说明

图1是现有双面ITO导电走线结构触控面板的ITO走线示意图。

图2是图1中触控面板的背面（X方向）ITO导电走线图。

图3是图1中触控面板的正面（Y方向）ITO导电走线图。

图4是图1的剖面结构示意图。

图5是本实用新型双面ITO导电走线结构的触控面板剖面示意图。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

参见图5中所示，本实用新型较佳实施例提供的电容式触摸屏的触控面板包括基板53、设置于基板53正面的ITO导电走线51、设置于基板53背面的ITO导电走线52。本实用新型是在现有的触摸屏基础上，去掉了金属膜线13（参照图4所示），为了去掉背面的金属膜线13，基板53背面的ITO导电膜的方块电阻设置为5～30Ω/□，经过测试，ITO膜的方块电阻在10Ω/□时，ITO膜的透光率也约为88%左右。由于降低了ITO膜的方块电阻，所以ITO走线的细线处的电阻也会随之降低，并且走线电阻可满足产品的要求，因此可以省略现有技术中的金属膜线13。