[实用新型]一种磁处理装置无效

专利信息
申请号: 201120088756.8 申请日: 2011-03-30
公开(公告)号: CN202117801U 公开(公告)日: 2012-01-18
发明(设计)人: 张启海;张峰;张淼;耿润海 申请(专利权)人: 张启海
主分类号: F02M27/04 分类号: F02M27/04;F23K5/08
代理公司: 北京思创毕升专利事务所 11218 代理人: 韦庆文
地址: 257026 山东省东营市*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 一种 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种磁处理装置,其自左向右依次包括进口(10)、上连接器(9)、中部磁化室(6)、下连接器(8)和出口(7)其特征在于:

所述的磁化室(6)内包括平行的m组、每一组分别在同一水平面上按圆柱磁体(1)圆柱轴向布置的圆柱磁体(1)组;

所述的圆柱磁体(1)组中的每两个相对的圆柱磁体(1)朝向磁化室(6)中心的垂直端面相对,两个端面相互平行、中间形成窄缝;

连接上连接器(9)和下连接器(8)的处理通道(5)位于每两个相对的圆柱磁体(1)端面边沿形成的窄缝内。

2.根据权利要求1的磁处理装置,其特征在于:

所述的每两个相对圆柱磁体(1)的磁端面分别由圆柱磁体(1)的N极和N极、S极和S极或N极与S极所形成。

3.根据权利要求1的磁处理装置,其特征在于:

所述磁化室(6)的组数m为1~10组。

4.根据权利要求1的磁处理装置,其特征在于:

所述的圆柱磁体(1)组中的每两个相对圆柱磁体(1)端面中间形成的窄缝间隔为0.1-50mm。

5.根据权利要求1的磁处理装置,其特征在于:

所述的处理通道(5)的形状包括方形、长方形、多边形或不规则形;

所述的处理通道(5)的截面积为0.0314-2000mm2。 

6.根据权利要求1的磁处理装置,其特征在于:

所述圆柱磁体(1)直径为4-90mm、厚度为1-100mm。

7.根据权利要求1的磁处理装置,其特征在于:

所述的每个圆柱磁体(1)朝向磁化室(6)外侧的垂直端面装有磁路片(4);

所述磁路片(4)直径与圆柱磁体(1)直径相同,厚度为0.2-10mm。

8.根据权利要求7的磁处理装置,其特征在于:

所述的磁化室(6)通过连接扣一(11)、连接扣二(3)与上连接器(9)和下连接器(8)连接。

9.根据权利要求7的磁处理装置,其特征在于:

所述的处理通道(5)的上端与上连接器(9)连接处设置有导向磁体(2);所述的每个导向磁体(2)朝向进口(10)另一侧的端面装有磁路片。

10.根据权利要求2~9之一的磁处理装置,其特征在于:

所述磁化室(6)的组数m为1~10组;

所述的圆柱磁体(1)组中的每两个相对圆柱磁体(1)端面中间形成的窄缝间隔为0.1-50mm;

所述的处理通道(5)的形状包括方形、长方形、多边形或不规则形;

所述的处理通道(5)的截面积为0.0314-2000mm2

所述圆柱磁体(1)直径为4-90mm、厚度为1-100mm;

所述的每个圆柱磁体(1)朝向磁化室(6)外侧的垂直端面装有磁路片(4);

所述磁路片(4)直径与圆柱磁体(1)直径相同,厚度为0.2-10mm;

所述的磁化室(6)通过连接扣一(11)、连接扣二(3)与上连接器(9)和下连接器(8)连接; 

所述的处理通道(5)的上端与上连接器(9)连接处设置有导向磁体(2);

所述的每个导向磁体(2)朝向进口(10)另一侧的端面装有磁路片。 

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