[实用新型]一种磁处理装置无效
申请号: | 201120088756.8 | 申请日: | 2011-03-30 |
公开(公告)号: | CN202117801U | 公开(公告)日: | 2012-01-18 |
发明(设计)人: | 张启海;张峰;张淼;耿润海 | 申请(专利权)人: | 张启海 |
主分类号: | F02M27/04 | 分类号: | F02M27/04;F23K5/08 |
代理公司: | 北京思创毕升专利事务所 11218 | 代理人: | 韦庆文 |
地址: | 257026 山东省东营市*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 处理 装置 | ||
1.一种磁处理装置,其自左向右依次包括进口(10)、上连接器(9)、中部磁化室(6)、下连接器(8)和出口(7)其特征在于:
所述的磁化室(6)内包括平行的m组、每一组分别在同一水平面上按圆柱磁体(1)圆柱轴向布置的圆柱磁体(1)组;
所述的圆柱磁体(1)组中的每两个相对的圆柱磁体(1)朝向磁化室(6)中心的垂直端面相对,两个端面相互平行、中间形成窄缝;
连接上连接器(9)和下连接器(8)的处理通道(5)位于每两个相对的圆柱磁体(1)端面边沿形成的窄缝内。
2.根据权利要求1的磁处理装置,其特征在于:
所述的每两个相对圆柱磁体(1)的磁端面分别由圆柱磁体(1)的N极和N极、S极和S极或N极与S极所形成。
3.根据权利要求1的磁处理装置,其特征在于:
所述磁化室(6)的组数m为1~10组。
4.根据权利要求1的磁处理装置,其特征在于:
所述的圆柱磁体(1)组中的每两个相对圆柱磁体(1)端面中间形成的窄缝间隔为0.1-50mm。
5.根据权利要求1的磁处理装置,其特征在于:
所述的处理通道(5)的形状包括方形、长方形、多边形或不规则形;
所述的处理通道(5)的截面积为0.0314-2000mm2。
6.根据权利要求1的磁处理装置,其特征在于:
所述圆柱磁体(1)直径为4-90mm、厚度为1-100mm。
7.根据权利要求1的磁处理装置,其特征在于:
所述的每个圆柱磁体(1)朝向磁化室(6)外侧的垂直端面装有磁路片(4);
所述磁路片(4)直径与圆柱磁体(1)直径相同,厚度为0.2-10mm。
8.根据权利要求7的磁处理装置,其特征在于:
所述的磁化室(6)通过连接扣一(11)、连接扣二(3)与上连接器(9)和下连接器(8)连接。
9.根据权利要求7的磁处理装置,其特征在于:
所述的处理通道(5)的上端与上连接器(9)连接处设置有导向磁体(2);所述的每个导向磁体(2)朝向进口(10)另一侧的端面装有磁路片。
10.根据权利要求2~9之一的磁处理装置,其特征在于:
所述磁化室(6)的组数m为1~10组;
所述的圆柱磁体(1)组中的每两个相对圆柱磁体(1)端面中间形成的窄缝间隔为0.1-50mm;
所述的处理通道(5)的形状包括方形、长方形、多边形或不规则形;
所述的处理通道(5)的截面积为0.0314-2000mm2;
所述圆柱磁体(1)直径为4-90mm、厚度为1-100mm;
所述的每个圆柱磁体(1)朝向磁化室(6)外侧的垂直端面装有磁路片(4);
所述磁路片(4)直径与圆柱磁体(1)直径相同,厚度为0.2-10mm;
所述的磁化室(6)通过连接扣一(11)、连接扣二(3)与上连接器(9)和下连接器(8)连接;
所述的处理通道(5)的上端与上连接器(9)连接处设置有导向磁体(2);
所述的每个导向磁体(2)朝向进口(10)另一侧的端面装有磁路片。
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