[实用新型]一种真空镀膜用基片水平输送装置

权利要求书

1.一种真空镀膜用基片水平输送装置，包括镀膜生产线腔室，腔室的前后两端分别具有传输用的进口和出口，其特征在于：镀膜生产线腔室的左右两侧薄壁上分别设有一组传动轴（4）沿腔室前后方向均匀设置，每个传动轴（4）贯穿腔室两侧的薄壁，在腔室内的每个传动轴（4）的端部连接一个传动轮；在腔室内还设有一个基片架（1），基片架（1）具有一个水平的放置面用于放置基片，以及与放置面底面固定连接的沿腔室前后方向设置的两侧导杆（3），所述的每侧导杆（3）同时和相应一侧的至少三个传动轮接触配合。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜用基片水平输送装置，其特征在于：所述的左侧传动轮为定位轮（5），所述的定位轮（5）的槽口的宽度与导杆（3）的宽度相适应。

3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜用基片水平输送装置，其特征在于：所述的右侧传动轮为非定位轮（8），所述的非定位轮（8）的槽口的宽度大于导杆（3）的宽度。

4.根据权利要求1、2或3所述的一种真空镀膜用基片水平输送装置，其特征在于：所述的与传动轮接触的导杆（3）底面上具有一个沿导杆（3）通长设置的橡胶条。

5.根据权利要求4所述的一种真空镀膜用基片水平输送装置，其特征在于：在靠近每侧导杆（3）内侧的基片架的底面上分别设有一个L形挡板（2）。

6.根据权利要求5所述的一种真空镀膜用基片水平输送装置，其特征在于：在镀膜生产线腔室内的底面上的两侧分别设有一个U形挡板（6）与相应的L形挡板（2）配合，相应一侧的U形挡板和L形挡板间错开一段距离。

7.根据权利要求6所述的一种真空镀膜用基片水平输送装置，其特征在于：所述的镀膜生产线腔室的两侧薄壁上还设有一根贯穿两侧薄壁的主轴（7），主轴（7）的两端分别通过同步带与相应一侧的相近的一根传动轴（4）的端部连接，相应一侧的两传动轴（4）间通过同步带连接。