[发明专利]等离子体处理设备

权利要求书

1.一种等离子体处理设备，用于利用等离子体处理基板，包括：

容器，能够在其内部配置所述基板；

天线，其被设置在所述容器周围以在所述容器中生成等离子体；

磁场生成部件，其被设置在所述天线周围以在所述容器中生成磁场，从而扩散所述等离子体；以及

倾斜调整部件，用于使所述天线和所述磁场生成部件中至少一个倾斜。

2.根据权利要求1所述的等离子体处理设备，其中，

所述天线是被配置为相对于第一轴大体轴对称并且围绕所述第一轴的环形天线，

所述磁场生成部件是被配置为相对于第二轴大体轴对称并且围绕所述第二轴的螺线管线圈，以及

所述倾斜调整部件使所述环形天线和所述螺线管线圈中的至少一个倾斜，以使得所述第一轴和所述第二轴相互形成预定角度。

3.根据权利要求1所述的等离子体处理设备，还包括用于支持所述磁场生成部件的底板，

其中，所述倾斜调整部件是设置在所述磁场生成部件和所述底板之间的板状构件。

4.根据权利要求1所述的等离子体处理设备，还包括用于支持所述磁场生成部件的底板，

其中，所述倾斜调整部件是连接至所述底板并且能够上下移动的驱动单元，以及

通过所述驱动单元的上下移动使所述底板倾斜，从而使所述磁场生成部件倾斜。

5.根据权利要求4所述的等离子体处理设备，其中，

所述底板大体为围绕所述容器的环形，以及

所述驱动单元包括设置在所述底板的一端侧的第一驱动单元和设置在所述底板的另一端侧的第二驱动单元。

6.根据权利要求4所述的等离子体处理设备，其中，

所述底板大体为围绕所述容器的环形，以及

所述驱动单元包括在所述底板的圆周方向上等角度地配置的第一驱动单元、第二驱动单元和第三驱动单元。

7.根据权利要求2所述的等离子体处理设备，其中，

由所述第一轴和所述第二轴形成的角度在0°～5°之间。

8.根据权利要求1所述的等离子体处理设备，其中，

所述磁场生成部件包括同心状地配置的第一螺线管线圈和第二螺线管线圈，以及

针对所述第一螺线管线圈和所述第二螺线管线圈中的每一个设置所述倾斜调整部件。

9.根据权利要求1所述的等离子体处理设备，其中，所述容器包括：

电源容器，用于在其内部生成等离子体；以及

处理容器，能够在其内部配置所述基板，并且其连接至所述电源容器从而使得所述处理容器的内部空间与所述电源容器的内部空间连通。