[发明专利]钼(IV)酰胺前驱物和其在原子层沉积中的用途

权利要求书

1.一种络合物Mo[N(Me)(Et)]₄。

2.一种通过原子层沉积来形成MoO₂膜的方法，所述方法包括将Mo[N(Me)(Et)]₄传送到衬底。

3.一种Mo(IV)络合物，其结构对应于式I：

其中：

L为--NR¹R²；

R¹和R²独立地为C₁-C₆烷基或氢；

R为C₁-C₆烷基；且

n为0、1、2或3，其中当n为0时，R¹和R²彼此不同。

4.根据权利要求3所述的络合物，其中

R¹和R²独立地为甲基、乙基或丙基；

R为甲基、乙基或丙基；并且

n为0、1或2。

5.根据权利要求3所述的络合物，其中

R¹和R²相同；

R为甲基；并且

n为0、1或2。

6.根据权利要求3所述的络合物，其中

R¹为甲基并且R²为乙基；

R为甲基；并且

n为0、1或2。

7.根据权利要求3所述的络合物，其中所述结构对应于式I的络合物选自由以下所组成的群组：

(甲基环戊二烯基)Mo(NMe₂)₃；

(乙基环戊二烯基)Mo(NMe₂)₃；

(丙基环戊二烯基)Mo(NMe₂)₃；

(甲基环戊二烯基)Mo(NEt₂)₃；

(乙基环戊二烯基)Mo(NEt₂)₃；

(丙基环戊二烯基)Mo(NEt₂)₃；

(环戊二烯基)Mo(NMeEt)₃；

(甲基环戊二烯基)Mo(NMeEt)₃；

(乙基环戊二烯基)Mo(NMeEt)₃；以及

(丙基环戊二烯基)Mo(NMeEt)₃。

8.根据权利要求3所述的络合物，其中所述结构对应于式I的络合物选自由以下所组成的群组：

(甲基环戊二烯基)Mo(NMe₂)₃；

(甲基环戊二烯基)Mo(NMeEt)₃；以及

(环戊二烯基)Mo(NMeEt)₃。

9.一种通过原子层沉积来形成MoO₂膜的方法，所述方法包括将至少一种前驱物传送到衬底，其中所述至少一种前驱物的结构对应于式I：

其中：

L为--NR¹R²；

R¹和R²独立地为C₁-C₆烷基或氢；

R为C₁-C₆烷基；并且

n为0、1、2或3。

10.根据权利要求9所述的方法，其中：

R¹和R²独立地为甲基、乙基或丙基；

R为甲基、乙基或丙基；并且

n为0、1或2。

11.根据权利要求9所述的方法，其中

R¹和R²相同；

R为甲基；并且

n为0、1或2。