[发明专利]反射镜、用于极紫外投射曝光系统的光学系统以及制造组件的方法

权利要求书

1.一种用于EUV辐射（14）的反射镜（20；20a）

-具有反射镜主体（21），所述反射镜主体（21）

--具有至少一个EUV辐射反射区（23）及

--至少两个EUV辐射可穿透区（22）；

-其中所述辐射可穿透区（22）具有包络（35），其中所述包络（35）界定一面积，所述面积覆盖所述至少一个辐射反射区（23）的总体的至少30%。

2.如权利要求1所述的反射镜（20；20a），其特征在于：对于每一个所述EUV辐射可穿透区（22），所述反射镜（20；20a）具有共轭的EUV辐射反射区（23），其中每一个EUV辐射可穿透区（22）可通过绕着对称轴（25）旋转而被转移至与其相应共轭的EUV辐射反射区（23）中。

3.如前述权利要求中的任一项所述的反射镜（20；20a），其特征在于：每一个EUV辐射可穿透区（22）被布置为相对于所述对称轴（25）对称于与其共轭的相应EUV辐射反射区（23）。

4.如前述权利要求中的任一项所述的反射镜（20；20a），其特征在于：具有大量的辐射可穿透区（22）以及与其共轭的辐射反射区（23）。

5.如权利要求4所述的反射镜，其特征在于：所述辐射可穿透区（22）的至少一部分被布置在绕着所述对称轴（25）的圆圈上。

6.如权利要求4或5所述的反射镜，其特征在于：所述辐射可穿透区（22）被布置为使得它们的共同重心与所述对称轴（25）重合。

7.一种用于利用EUV辐射（14）照明物场（15）的照明光学系统（4），其具有如前述权利要求中的任一项所述的反射镜（20a）。

8.一种用于将物场（5）成像于像场（10）中的投射光学系统（9），其具有如权利要求1至6中的任一项所述的反射镜（20）。

9.如权利要求8所述的投射光学系统（9），其特征在于：所述反射镜（20）被布置为接近光瞳。

10.一种用于EUV投射曝光系统（1）的光学系统（27），包含：

-第一光学系统（4），用于利用EUV辐射（14）照明物场（5），

--其中所述第一光学系统（4）具有至少一个瞳分面反射镜（18），及

--其中在所述第一光学系统（4）中的EUV辐射具有至少一个特定光束路线以产生特定照明设定；及

-第二光学系统（9），用于将所述物场（5）成像于像场（10）中；

-其中所述光学系统（4、9）中的至少一个包含具有至少一个EUV辐射可穿透区（22）的至少一个反射镜（20；20a），所述至少一个反射镜（20；20a）布置在相应的另一光学系统（9、4）的光束路径中，使得在此光学系统（9、4）中的EUV辐射的至少一部分被引导通过所述至少一个EUV辐射可穿透区（22）。

11.如权利要求10所述的光学系统（27），其特征在于：所述第一光学系统是照明光学系统（4），所述第二光学系统是投射光学系统（9），并且所述投射光学系统（9）包含具有至少一个EUV辐射可穿透区（22）的至少一个反射镜（20），所述至少一个反射镜（20）布置在所述照明光学系统（4）的光束路径中，使得所述照明光学系统（4）中的EUV辐射（14）的至少一部分被引导通过所述至少一个EUV辐射可穿透区（22）。

12.如权利要求10或11所述的光学系统（27），其特征在于：如权利要求8或9所述的投射光学系统（9）。

13.一种EUV投射曝光系统（1），包含：

-EUV辐射源（3）；及

-如权利要求10至12中的任一项所述的光学系统（27）。

14.一种制造微结构化或纳米结构化组件的方法，具有以下方法步骤：

-提供掩模母版（7）；

-提供具有感光涂层的晶片（12）；

-借助如权利要求13所述的投射曝光系统（11），将所述掩模母版（7）的至少一部分投射于所述晶片（12）上；

-显影所述晶片（12）上被曝光的感光涂层。

15.一种通过如权利要求14所述的方法制造的组件。