[发明专利]具有提高的品质因数的半赫斯勒合金及其制造方法无效
申请号: | 201180059811.3 | 申请日: | 2011-12-19 |
公开(公告)号: | CN103314458A | 公开(公告)日: | 2013-09-18 |
发明(设计)人: | 任志峰;严潇;吉里·乔希;陈刚;贝德·保德尔;詹姆斯·克里斯托弗·凯勒 | 申请(专利权)人: | 波士顿学院理事会;GMZ能源公司 |
主分类号: | H01L35/02 | 分类号: | H01L35/02;H01L35/12 |
代理公司: | 广州三环专利代理有限公司 44202 | 代理人: | 温旭;郝传鑫 |
地址: | 美国马*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 具有 提高 品质因数 赫斯 合金 及其 制造 方法 | ||
1.一种制造平均粒度小于1微米的热电材料的方法,所述方法包括:
组合并电弧熔化所述热电材料的组成元素,形成所述热电材料的液态合金;
铸造所述热电材料的液态合金,形成所述热电材料的固体铸件;
将所述热电材料的固体铸件球磨成具有纳米级平均粒度的颗粒;以及
烧结上述具有纳米级粒度的颗粒,从而形成具有纳米级平均粒度的热电材料。
2.如权利要求1所述的方法,其中,所述具有纳米级平均粒度的颗粒的平均粒度小于100nm,且90%所述颗粒的粒度小于250nm。
3.如权利要求2所述的方法,其中,所述具有纳米级平均粒度的颗粒的平均粒度为5nm至100nm。
4.如权利要求1所述的方法,其中,所述纳米级平均粒度为小于300nm,且90%所述颗粒的粒度小于500nm。
5.如权利要求4所述的方法,其中,所述纳米级平均粒度为10nm至300nm。
6.如权利要求1所述的方法,其中,所述组成元素的纯度为至少99.9%。
7.如权利要求6所述的方法,其中,所述组成元素的纯度为至少99.99%。
8.如权利要求1所述的方法,其中,所述热电材料包括半赫斯勒材料,并且所述组成元素包括Tr、Zr、Hf中的至少一种,Ni和Co中的至少一种以及Sn和Sb中的至少一种。
9.如权利要求8所述的方法,其中,所述半赫斯勒材料的分子式为Hf1+δ-x-yZrxTiyNiSn1+δ-zSbz,其中,0≤x≤1.0,0≤y≤1.0,0≤z≤1.0且-0.1≤δ≤0.1。
10.如权利要求9所述的方法,其中,所述半赫斯勒材料的分子式为Hf1-x-yZrxTiyNiSn1-zSbz,其中,0≤x≤1.0,0≤y≤1.0且0≤z≤1.0。
11.如权利要求10所述的方法,其中,所述半赫斯勒材料的分子式为Hf1-x-yZrxTiyNiSn1-zSbz,其中,0≤x≤0.5,0≤y≤0.5且0≤z≤0.2。
12.如权利要求8所述的方法,其中,所述半赫斯勒材料的分子式为Hf1+δ-x-yZrxTiyCoSb1+δ-zSnz,其中,0≤x≤1.0,0≤y≤1.0,0≤z≤1.0且-0.1≤δ≤0。
13.如权利要求12所述的方法,其中,所述半赫斯勒材料的分子式为Hf1-x-yZrxTiyCoSb1-zSnz,其中,0≤x≤1.0,0≤y≤1.0且0≤z≤1.0。
14.如权利要求13所述的方法,其中,所述半赫斯勒材料的分子式为Hf1-x-yZrxTiyCoSb1-zSnz,其中,0≤x≤0.5,0≤y≤0.5且0≤z≤0.5。
15.如权利要求1所述方法,其中,所述热电材料的品质因数ZT比粒度为1微米或1微米以上的相同热电材料的品质因数ZT大20%或20%以上。
16.如权利要求15所述的方法,其中,所述热电材料的品质因数ZT比粒度为1微米或1微米以上的相同热电材料的品质因数ZT大50%或50%以上。
17.如权利要求1所述的方法,其中,所述热电材料为n型,在高于600℃的温度下品质因数ZT大于0.8。
18.如权利要求1所述的方法,其中,所述热电材料为p型,在高于600℃的温度下品质因数ZT大于0.5。
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