[发明专利]一种可紫外光固化的耐高温、耐腐蚀的有机硅/二氧化硅杂化涂层的制备方法

权利要求书

1.一种可紫外光固化的耐高温、耐腐蚀的有机硅/二氧化硅杂化涂层的制备方法，其制备所需原料为：正硅酸乙酯，甲基三乙氧基硅烷，二苯基二甲氧基硅烷，无水乙醇，盐酸，蒸馏水，γ-甲基丙烯酰氧基硅烷，自由基型光引发剂，其特征在于制备方法为：在室温下按计量数将无水乙醇、盐酸和蒸馏水依次滴加至定量的正硅酸乙酯中，反应5min~85min后再依次加入定量的甲基三乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷以及γ-甲基丙烯酰氧基硅烷和自由基型光引发剂的混合液，反应25min~3h后加热至50~80℃，冷凝回流1h~6h得到无色透明的可紫外光固化的有机硅/二氧化硅杂化溶胶，冷至室温后密封静置备用，将密封静置的杂化溶胶用刷涂法在基体上进行涂膜，待溶剂挥发后进行紫外光固化得到有机硅/二氧化硅杂化涂层；所述各原料加入量的重量比为：正硅酸乙酯:甲基三乙氧基硅烷:二苯基二甲氧基硅烷:γ-甲基丙烯酰氧基硅烷=0.001~500: 0.001~500: 0.001~200: 0.001~200；无水乙醇:蒸馏水:盐酸: Si=0.001~500: 0~100: 0.0001~50:0.01~1000，其中的Si表示正硅酸乙酯、甲基三乙氧基硅烷、二苯基二甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基硅烷加入量的总摩尔数；光引发剂的加入量为固含量的0.1%~10%。

2.根据权利要求1所述的一种可紫外光固化的耐高温、耐腐蚀的有机硅/二氧化硅杂化涂层的制备方法，其特征在于紫外光固化时间为：30s~300s。

3.根据权利要求1所述的一种可紫外光固化的耐高温、耐腐蚀的有机硅/二氧化硅杂化涂层的制备方法，其特征在于：有机硅/二氧化硅杂化涂层的厚度为2 ~2000微米。