[发明专利]发光装置有效
申请号: | 201210065359.8 | 申请日: | 2012-03-13 |
公开(公告)号: | CN102694130A | 公开(公告)日: | 2012-09-26 |
发明(设计)人: | 内藤胜之 | 申请(专利权)人: | 株式会社东芝 |
主分类号: | H01L51/52 | 分类号: | H01L51/52;H01L27/32 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 张海涛;于辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 发光 装置 | ||
1.一种发光装置,其特征在于,包括:
透光层,包括第一区域和第二区域以及介于其间的第三区域;和
发光部,与第二区域或与第二区域和第三区域重叠,
其中所述发光装置的对应于第一区域的第一部分使在可见光范围内具有特定波长的光以第一透过率透过,
所述发光装置的对应于第二区域的第二部分使所述发光部发光,并且使具有所述波长的光以低于第一透过率的第二透过率透过,和
所述发光装置的对应于第三区域的第三部分被构造成具有对于具有所述波长的光的透过率在第一透过率至第二透过率的范围内从第一部分侧的端部到第二部分侧的端部降低的透过率分布。
2.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述透光层包括:
彼此面对的第一基板和第二基板;
光可变层,介于第一基板和第二基板之间并且其光学特性根据施加电压的大小变化;
一个或多个第一电极,介于第一基板和第二基板之间;和
第二电极,介于第一基板和第二基板之间并连同所述的一个或多个第一电极一起将电压施加到所述光可变层,和
其中所述装置被构造成,在所述透光层的至少一部分内,根据在所述的一个或多个第一电极中每一个和第二电极之间施加的电压大小和/或方向,改变在可见光范围内具有特定波长的光的透过率。
3.如权利要求2所述的装置,其特征在于,所述透光层被构造成,根据在至少一个第一电极和第二电极之间施加的电压大小和/或方向,改变具有所述波长的光在第三区域的透过率,和
其中所述发光装置被构造成控制在至少一个第一电极和第二电极之间的电压施加,使得具有所述波长的光在第三区域的透过率在第一透过率至第二透过率的范围内从第一部分侧的端部到第二部分侧的端部降低。
4.如权利要求3所述的装置,其特征在于,所述发光部包括:
彼此面对的第三基板和第四基板;
密封层,介于第三基板和第四基板之间并具有框架形状;和
一个或多个发光元件,位于由第三基板和第四基板以及所述密封层包围的空间内,和
其中所述一个或多个发光元件位于第二部分内,并且所述密封层位于第三部分内。
5.如权利要求2所述的装置,其特征在于,还包括光学调节层,所述光学调节层位于第三部分内并且具有对于具有所述波长的光的透过率在第一透过率至第二透过率的范围内从第一部分侧的端部到第二部分侧的端部降低的透过率分布。
6.如权利要求5所述的装置,其特征在于,所述发光部包括:
彼此面对的第三基板和第四基板;
密封层,介于第三基板和第四基板之间并具有框架形状;和
一个或多个发光元件,位于由第三基板和第四基板以及所述密封层包围的空间内,和
其中所述一个或多个发光元件位于第二部分内,并且所述密封层位于第三部分内。
7.如权利要求2所述的装置,其特征在于,所述发光部包括:
彼此面对的第三基板和第四基板;
密封层,介于第三基板和第四基板之间并具有框架形状;和
一个或多个发光元件,位于由第三基板和第四基板以及所述密封层包围的空间内,和
其中所述一个或多个发光元件位于第二部分内,并且所述密封层位于第三部分内。
8.如权利要求1所述的装置,其特征在于,还包括光学调节层,所述光学调节层位于第三部分内并且具有对于具有所述波长的光的透过率在第一透过率至第二透过率的范围内从第一部分侧的端部到第二部分侧的端部降低的透过率分布。
9.如权利要求1所述的装置,其特征在于,所述发光部包括:
彼此面对的第三基板和第四基板;
密封层,介于第三基板和第四基板之间并具有框架形状;和
一个或多个发光元件,位于由第三基板和第四基板以及所述密封层包围的空间内,和
其中所述一个或多个发光元件位于第二部分内,并且所述密封层位于第三部分内。
10.如权利要求1所述的装置,其特征在于,在其中所述透光层和所述发光部彼此隔开的状态下,当所述透光层和所述发光部中每一个的一个主表面被设置为第一温度且另一个主表面被设置为不同于第一温度的第二温度时,所述透光层的每单位长度的翘曲量比所述发光部的小。
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