[发明专利]刻印方法和刻印装置

权利要求书

1.一种刻印方法，在该刻印方法中进行模具和基片的对准控制并且将形成在模具上的图案转印到设置在基片上的图案形成层上，所述刻印方法包括：

在对准控制开始后在进行对准控制的同时使所述模具和所述基片彼此靠近的步骤，以使模具与图案形成层相互接触并且继而将图案形成层固化；

检测所述图案形成层和所述模具中的至少一个的状态的步骤；

在图案形成层固化后增大模具与基片之间的间隙的步骤；和

在对准控制开始之后并且在所述模具接触图案形成层之前和之后中的至少一个时改变用于对准控制的控制参数的步骤，

其中所述控制参数是在用于将保持所述模具的模具保持部和保持所述基片的基片保持部中的至少一个移动到目标位置的控制中所使用的参数，并且

其中所述控制参数包括PID参数、前馈参数和滤波器参数中的至少一个。

2.一种刻印方法，在该刻印方法中进行模具和基片的对准控制并且将形成在模具上的图案转印到设置在基片上的图案形成层上，所述刻印方法包括：

在对准控制开始后在进行对准控制的同时使所述模具和所述基片彼此靠近的步骤，以使模具与图案形成层相互接触并且继而将图案形成层固化；

检测所述图案形成层和所述模具中的至少一个的状态的步骤；

在图案形成层固化后增大模具与基片之间的间隙的步骤；和

在对准控制开始之后并且在所述模具接触图案形成层之前和之后中的至少一个时改变用于对准控制的控制参数的步骤，

其中所述控制参数是在用于将保持所述模具的模具保持部和保持所述基片的基片保持部中的至少一个移动到目标位置的控制中所使用的参数，并且

其中所述控制参数包括比例增益。

3.根据权利要求2所述的方法，其中使在所述对准控制中使用的所述比例增益在所述模具接触所述图案形成层之后比在所述模具接触所述图案形成层之前大。

4.根据权利要求1所述的方法，其中所述模具和所述基片的对准控制是相对于所述模具和所述基片的平面内的方向进行的。

5.一种用于生产构件的方法，包括：

通过使用根据权利要求1所述的刻印方法将形成在模具上的图案转印到设置在基片上的图案形成层上的步骤，

通过将在转印所述图案的所述步骤中在其上转印有所述图案的图案形成层作为掩模蚀刻所述基片的步骤。

6.一种刻印装置，在该刻印装置中进行模具和基片的对准控制并且将形成在模具上的图案转印到设置在基片上的图案形成层上，所述刻印装置包括：

用于保持模具的模具保持部；

用于保持基片的基片保持部工作台；

控制部，用于进行控制以便在对准控制开始后在进行对准控制的同时使由所述模具保持部保持的模具和由所述基片保持部保持的基片彼此靠近，以使模具与图案形成层相互接触并且继而将图案形成层固化；

检测部，用于检测所述图案形成层和所述模具中的至少一个的状态；和

改变部，在对准控制开始之后并且在所述模具接触图案形成层之前和之后中的至少一个时，所述改变部改变用于对准控制的控制参数，

其中所述控制参数是在用于将保持所述模具的模具保持部和保持所述基片的基片保持部中的至少一个移动到目标位置的控制中所使用的参数，并且

其中所述控制参数包括PID参数、前馈参数和滤波器参数中的至少一个。

7.一种刻印装置，在该刻印装置中进行模具和基片的对准控制并且将形成在模具上的图案转印到设置在基片上的图案形成层上，所述刻印装置包括：

用于保持模具的模具保持部；

用于保持基片的基片保持部工作台；

控制部，用于进行控制以便在对准控制开始后在进行对准控制的同时使由所述模具保持部保持的模具和由所述基片保持部保持的基片彼此靠近，以使模具与图案形成层相互接触并且继而将图案形成层固化；

检测部，用于检测所述图案形成层和所述模具中的至少一个的状态；和

改变部，在对准控制开始之后并且在所述模具接触图案形成层之前和之后中的至少一个时，所述改变部改变用于对准控制的控制参数，

其中所述控制参数是在用于将保持所述模具的模具保持部和保持所述基片的基片保持部中的至少一个移动到目标位置的控制中所使用的参数，并且

其中所述控制参数包括比例增益。