[发明专利]用于具有适合相移分析的强度调制元件的探头的条纹投影系统有效
申请号: | 201210249195.4 | 申请日: | 2012-05-04 |
公开(公告)号: | CN102778198B | 公开(公告)日: | 2017-09-22 |
发明(设计)人: | C·A·本达尔;T·A·基勒克 | 申请(专利权)人: | 通用电气公司 |
主分类号: | G01B11/00 | 分类号: | G01B11/00;G01B11/25;G02B27/48 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 叶晓勇,朱海煜 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 具有 适合 相移 分析 强度 调制 元件 探头 条纹 投影 系统 | ||
1.一种光学探头,包括:
插入管;
多个光发射器,平行于所述插入管的远端而设置,其中所述多个光发射器沿着垂直于所述光发射器的轴间隔开;
至少一个强度调制元件,包括具有光栅周期的多个光栅元件的多个列,其中所述多个光栅元件的所述多个列平行于所述多个光发射器,并且其中来自所述多个光发射器的光经过所述至少一个强度调制元件以投影多个条纹集到表面上,所述多个条纹集中的每个包括当所述多个光发射器的至少一个的一个光发射器组在发射时投影的结构化光图案;
成像器,用于获得所述表面的至少一个图像;
处理单元,配置成对所述至少一个图像执行相移分析;
检查光传递系统,从检查光源传递光至表面;
其中,在检查模式期间所述检查光传递系统从所述插入管远端输出光;
其中,从所述检查光传递系统输出的光的强度在测量模式期间自动降低;以及
其中,当所述多个条纹集的至少一个投影到所述表面时,探头在测量模式中操作;
其中,所述多个光栅元件包括至少一个垂直于所述光栅的列的方向而延伸的周期性图案。
2.如权利要求1所述的探头,其中所述多个光栅元件包括:
第一连续正弦图案,垂直于所述多个光发射器而延伸,形成所述多个光栅元件的每个的顶侧;
第二连续正弦图案,垂直于所述多个光发射器而延伸,形成所述多个光栅元件的每个的底侧,其中所述第二连续正弦图案与所述第一连续正弦图案相对并为其镜像;并且
其中所述多个光栅元件形成光栅元件的多个行,其延续垂直于所述多个光发射器的所述第一连续正弦图案的若干光栅周期。
3.如权利要求1所述的探头,其中所述多个光栅元件包括:
第一间断正弦图案,垂直于所述多个光发射器而延伸,形成所述多个光栅元件的每个的顶侧;
第二间断正弦图案,垂直于所述多个光发射器而延伸,形成所述多个光栅元件的每个的底侧,其中所述第二间断正弦图案与所述第一间断正弦图案相对并且为其镜像;
左侧和右侧,对于所述多个光栅元件的每个截断所述第一间断正弦图案和所述第二间断正弦图案;
其中,所述多个列中的所述多个光栅元件通过连接板连接,所述连接板从一个光栅元件的顶侧延伸至相邻光栅元件的底侧;并且
其中,所述多个光栅元件形成光栅元件的多个行,其延续垂直于所述多个光发射器的所述第一间断正弦图案的若干光栅周期,在所述多个行中每个光栅元件的左侧和相邻光栅元件的右侧之间形成间隙。
4.如权利要求1所述的探头,其中所述多个光栅元件包括:
第一连续三角形图案,垂直于所述多个光发射器而延伸,形成所述多个光栅元件的每个的顶侧;
第二连续三角形图案,垂直于所述多个光发射器而延伸,形成所述多个光栅元件的每个的底侧,其中所述第二连续三角形图案与所述第一连续三角形图案相对并且为其镜像;并且
其中所述多个光栅元件形成光栅元件的多个行,其延续垂直于所述多个光发射器的所述第一连续三角形图案的若干光栅周期。
5.如权利要求1所述的探头,其中所述多个光栅元件中的每个包括:
第一间断三角形图案,垂直于所述多个光发射器而延伸,形成所述多个光栅元件的每个的顶侧;
第二间断三角形图案,垂直于所述多个光发射器而延伸,形成所述多个光栅元件的每个的底侧,其中所述第二间断三角形图案与所述第一间断三角形图案相对并且为其镜像;
左侧和右侧,对所述多个光栅元件的每个截断所述第一间断三角形图案和所述第二间断三角形图案;
其中,所述多个列中的所述多个光栅元件通过连接板连接,所述连接板从一个光栅元件的顶侧延伸至相邻光栅元件的底侧;并且
其中,所述多个光栅元件形成光栅元件的多个行,其延续垂直于所述多个光发射器的所述第一间断三角形图案的若干光栅周期,在所述多个行中每个光栅元件的左侧和相邻光栅元件的右侧之间形成间隙。
6.如权利要求1所述的探头,其中所述结构化光图案包括平行的亮线和暗线,并且其中所述平行的亮线和暗线包括正弦强度轮廓。
7.如权利要求1所述的探头,其中当将所述多个条纹集的至少一个投影到所述表面时,所述探头在测量模式中操作。
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