[发明专利]用于确定重叠误差的方法和设备有效

专利信息
申请号: 201210308690.8 申请日: 2012-08-27
公开(公告)号: CN102967997A 公开(公告)日: 2013-03-13
发明(设计)人: A·J·登博夫 申请(专利权)人: ASML荷兰有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20;G01M11/02
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 吴敬莲
地址: 荷兰维*** 国省代码: 荷兰;NL
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摘要:
搜索关键词: 用于 确定 重叠 误差 方法 设备
【权利要求书】:

1.一种确定重叠误差的方法,所述方法包括步骤:

-测量包括第一结构和第二结构的第一目标的散射性质;

-使用所测量的散射性质重构第一结构的模型,所述模型包括对应所述第一结构的第一模型结构;

-通过将第一模型结构与中间模型结构重叠来修正所述模型;

-计算被修正的模型中的第一模型结构与中间模型结构之间的第一缺陷引入的重叠误差;

-通过用对应第二结构的第二模型结构替换中间模型结构来进一步修正所述模型;

-计算第一模型结构和第二模型结构之间的第二缺陷引入的重叠误差,第一和第二模型结构在进一步被修正的模型中相对于彼此被重叠;和

-使用所计算的第二缺陷引入的重叠误差确定第二目标中的重叠误差。

2.如权利要求1所述的方法,其中测量第一目标的散射性质的步骤包括:在形成第二结构之前测量第一目标的散射性质,和使用重构第一结构的模型的步骤中的最终所测量的散射性质;以及随后在形成第二结构之后测量第一目标的散射性质,和使用在通过用第二模型结构替换中间模型结构的所述模型的进一步修正中的最终所测量的散射性质。

3.如权利要求1或2所述的方法,其中所述中间模型结构不展示任何缺陷。

4.如权利要求1或2或3所述的方法,其中修正所述模型的步骤包括下列步骤:

-限定第一模型结构的位置参数以补偿所述缺陷;和

-使用所限定的位置参数相对于彼此定位第一和中间模型结构。

5.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中通过用第二模型结构替换中间模型结构来进一步修正所述模型的步骤包括相对于第一模型结构将第二模型结构放置在与中间模型相同的位置中。

6.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中所述第一和中间模型结构相对于彼此以零偏离重叠。

7.如权利要求1-5中任一项所述的方法,其中所述第一和中间模型结构相对于彼此以预定的非零偏离重叠,对多个不同的非零偏离重复所述方法;和其中使用所计算的第二缺陷引入的重叠误差确定第二目标中的重叠误差的步骤包括选择具有与第二目标的所测量的重叠误差最接近对应的对应性的、在预定偏离的情况下获得的计算的第二缺陷引入的重叠误差。

8.如前述权利要求中任一项所述的方法,其中计算第一模型结构与第二模型结构之间的第二缺陷引入的重叠误差的步骤包括计算描述在第二结构中的缺陷的一个或多个参数。

9.如权利要求8所述的方法,其中计算描述在第二结构中的缺陷的一个或多个参数(pi)的步骤包括最小化均方误差(ε),所述均方误差限定为:

ϵ=||ΔOVm-ΔOVL1-Σi=1MpiSi,L2||2]]>

其中ΔOVm是不同散射性质测量方案之间的重叠测量中所测量的变化的和,ΔOVL1是由第一结构中的缺陷导致的不同散射性质测量方案之间的重叠计算中的变化的和,以及Si,L2是由于参数pi、不同散射性质测量方案之间的重叠计算中的变化的敏感性。

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