[发明专利]激光光束匀化装置无效

专利信息
申请号: 201210309070.6 申请日: 2012-08-27
公开(公告)号: CN102819113A 公开(公告)日: 2012-12-12
发明(设计)人: 曾华林;何军;李丽艳;范松涛;佟有万;雷平顺;周燕 申请(专利权)人: 中国科学院半导体研究所
主分类号: G02B27/09 分类号: G02B27/09
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人: 汤保平
地址: 100083 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 激光 光束 化装
【说明书】:

技术领域

本发明涉及一种激光光束匀化装置,其是均匀发射的激光光源,特别是二维光强分布截面光强分布均匀的激光光源,利用本方案,可以在二维平面内,通过CCD以及人眼可以看到光强度分布均匀的图像。

背景技术

在现有的激光夜视系统中,其成像器件一般为CCD或CMOS器件,如果激光照射光斑不均匀,则其成像效果会比较差,而现有的激光均匀化技术都存在一定的缺陷,因此需要一种适合该系统,同时不损失光的新型技术。

发明内容

本发明专利的目的在于,提供一种激光光束匀化装置,其可克服现有激光均匀化技术存在的缺点,同时激光光源功率损失较小。

本发明提供一种激光光束匀化装置,包括:

一激光器;

一微透镜阵列,该微透镜阵列由多个微透镜组成,该微透镜阵列位于激光器的发光光路上;

一发射透镜,该发射透镜位于微透镜阵列之后并位于激光器和微透镜阵列的发光光路上。

其中激光器为半导体激光器。

其中微透镜阵列为2毫米×2毫米,每个微透镜的间距为150微米或300微米。

其中发射透镜为凸透镜,焦距为50mm。

其中所述微透镜阵列位于所述发射透镜的焦点平面上。

本发明激光光束匀化装置,其可均匀发射激光光束,与现有的技术相比,其在光斑均匀方面的有明显提高,激光能量衰减低,并且实现难度小。

附图说明

为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚明白,以下结合具体实施例及附图,对本发明进一步详细说明。虽然本文可提供包含特定值的参数的示范,但应了解,参数无需确切等于相应的值,而是可在可接受的误差容限或设计约束内近似于所述值,其中:

图1为本发明装置的原理结构图。

具体实施方式;

请参阅图1所示,本发明提供一种激光光束匀化装置,包括:

一激光器1;该激光器1为半导体激光器,其作用是作为光源发出激光。

一微透镜阵列2,该微透镜阵列2由多个微透镜组成,该微透镜阵列2位于激光器1的发光光路上,其中微透镜阵列2为2毫米×2毫米,每个微透镜的间距为150微米或300微米,其作用是激光器1发出的光照射到微透镜阵列2上时,经过微透镜阵列2会形成很多发光光点,而每个发光光点相当于一个小的光源,然后每个小的光源在远处相互交叠,从而实现光斑均匀化;

一发射透镜3,其中发射透镜3为凸透镜,焦距为50mm,该发射透镜3位于微透镜阵列2之后并位于激光器1和微透镜阵列2的发光光路上,其到微透镜阵列2的距离为发生透镜3的焦距,其作用是让通过微透镜阵列2之后的光有一定汇聚,从而可实现能量更集中,照射距离更远。

以上所述,仅为本发明中的具体实施方式,但本发明的保护范围并不局限于此,任何熟悉该技术的人在本发明所揭露的技术范围内,可轻易想到的变换或替换,都应涵盖在本发明的包含范围之内。因此,本发明的保护范围应该以权利要求书的保护范围为准。

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