[发明专利]一种电场增强效应的铟镓砷太赫兹探测器有效

专利信息
申请号: 201210405474.5 申请日: 2012-10-22
公开(公告)号: CN102938422A 公开(公告)日: 2013-02-20
发明(设计)人: 黄志明;童劲超;黄敬国;褚君浩 申请(专利权)人: 中国科学院上海技术物理研究所
主分类号: H01L31/0224 分类号: H01L31/0224;H01L31/08;H01Q1/22
代理公司: 上海新天专利代理有限公司 31213 代理人: 郭英
地址: 200083 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 电场 增强 效应 铟镓砷太 赫兹 探测器
【权利要求书】:

1.一种电场增强效应的铟镓砷太赫兹探测器,其特征在于:所述的探测器结构为在磷化铟衬底(1)上依次生长磷化铟层(2)、InxGa1-xAs层(3)、右掺杂InyGa1-yAs层(4)和左掺杂InyGa1-yAs层(5)、右掺杂InzGa1-zAs层(6)和左掺杂InzGa1-zAs层(7)以及正电极层(8)和负电极层(9);其中:

所述的磷化铟衬底(1)厚度为0.5—1.5mm;

所述的磷化铟缓型层(2)厚度为50—150nm;

所述的InxGa1-xAs层(3)的厚度为2000—3000nm,其x值为0.537;

所述右掺杂InyGa1-yAs层(4)和左掺杂InyGa1-yAs层(5)的厚度为50—150nm,掺杂为Si,浓度大小为2×1018—1×1019cm-3,y值为0.526;

所述的右掺杂InzGa1-zAs层(6)和左掺杂InzGa1-zAs层(7)厚度为250—350nm,掺杂为Si,浓度大小为1×1019—8×1019cm-3,z值为0.526;

所述的正电极层(8)和负电极层(9)厚度为350—450nm,由金和锡溅射而成,用来兼做耦合天线和正负电极,该电极层覆盖在右掺杂InzGa1-zAs层(4),左掺杂InzGa1-zAs层(5),右掺杂InyGa1-yAs层(6)和左掺杂InyGa1-yAs层(7)和InxGa1-xAs层(3)形成的台阶的两侧表面和两侧边缘,并在接触处形成欧姆接触,而大部分的电极层都溅射在台阶两侧的表面上;右电极层(8)和左电极层(9)围绕探测器中心线两边成对称分布,对称分布结构中,正负电极指向对称中心的四个顶点D与右掺杂InzGa1-zAs层(6)和左掺杂InzGa1-zAs层(7)的边缘四个顶点重合且使其表面连接。

2.根据权利要求1所述的一种电场增强的铟镓砷太赫兹探测器,其特征在于:所述的正电极(8)和负电极(9)的尺寸为:对称中心四个顶点D距离探测器左边或者右边的距离为m1等于三分之一对称中心台阶的宽度m,m的大小为30—70um;探测器的尺寸m1×n小于100×100μm2;正负电极尺寸为s×t,s的大小为0.2—1.2mm,当s和t中有一个距离取定值时,另一个距离为探测器所探测波长的四分之一。

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