[发明专利]一种电场增强效应的铟镓砷太赫兹探测器有效
申请号: | 201210405474.5 | 申请日: | 2012-10-22 |
公开(公告)号: | CN102938422A | 公开(公告)日: | 2013-02-20 |
发明(设计)人: | 黄志明;童劲超;黄敬国;褚君浩 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
主分类号: | H01L31/0224 | 分类号: | H01L31/0224;H01L31/08;H01Q1/22 |
代理公司: | 上海新天专利代理有限公司 31213 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 200083 *** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 电场 增强 效应 铟镓砷太 赫兹 探测器 | ||
1.一种电场增强效应的铟镓砷太赫兹探测器,其特征在于:所述的探测器结构为在磷化铟衬底(1)上依次生长磷化铟层(2)、InxGa1-xAs层(3)、右掺杂InyGa1-yAs层(4)和左掺杂InyGa1-yAs层(5)、右掺杂InzGa1-zAs层(6)和左掺杂InzGa1-zAs层(7)以及正电极层(8)和负电极层(9);其中:
所述的磷化铟衬底(1)厚度为0.5—1.5mm;
所述的磷化铟缓型层(2)厚度为50—150nm;
所述的InxGa1-xAs层(3)的厚度为2000—3000nm,其x值为0.537;
所述右掺杂InyGa1-yAs层(4)和左掺杂InyGa1-yAs层(5)的厚度为50—150nm,掺杂为Si,浓度大小为2×1018—1×1019cm-3,y值为0.526;
所述的右掺杂InzGa1-zAs层(6)和左掺杂InzGa1-zAs层(7)厚度为250—350nm,掺杂为Si,浓度大小为1×1019—8×1019cm-3,z值为0.526;
所述的正电极层(8)和负电极层(9)厚度为350—450nm,由金和锡溅射而成,用来兼做耦合天线和正负电极,该电极层覆盖在右掺杂InzGa1-zAs层(4),左掺杂InzGa1-zAs层(5),右掺杂InyGa1-yAs层(6)和左掺杂InyGa1-yAs层(7)和InxGa1-xAs层(3)形成的台阶的两侧表面和两侧边缘,并在接触处形成欧姆接触,而大部分的电极层都溅射在台阶两侧的表面上;右电极层(8)和左电极层(9)围绕探测器中心线两边成对称分布,对称分布结构中,正负电极指向对称中心的四个顶点D与右掺杂InzGa1-zAs层(6)和左掺杂InzGa1-zAs层(7)的边缘四个顶点重合且使其表面连接。
2.根据权利要求1所述的一种电场增强的铟镓砷太赫兹探测器,其特征在于:所述的正电极(8)和负电极(9)的尺寸为:对称中心四个顶点D距离探测器左边或者右边的距离为m1等于三分之一对称中心台阶的宽度m,m的大小为30—70um;探测器的尺寸m1×n小于100×100μm2;正负电极尺寸为s×t,s的大小为0.2—1.2mm,当s和t中有一个距离取定值时,另一个距离为探测器所探测波长的四分之一。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的