[发明专利]激光激发CVD镀膜设备

权利要求书

1.一种激光激发CVD镀膜设备，包括壳体，该壳体具有密封的CVD腔体，其特征在于：所述CVD腔体内安装有用于喷出工作气体的喷气装置和用于将激光源聚焦于喷气装置喷嘴前端的激光聚焦装置，待镀膜材料位于所述喷气装置的喷嘴前端并与之相对。

2.如权利要求1所述的激光激发CVD镀膜设备，其特征在于：所述CVD腔体内安装有用于驱动所述喷气装置沿所述待镀膜材料表面平行移动的移动装置。

3.如权利要求2所述的激光激发CVD镀膜设备，其特征在于：所述喷气装置包括具有所述喷嘴的喷气架，所述激光聚焦装置包括聚焦激光源的聚焦头及用于接驳光纤的光纤接驳管，所述聚焦头与所述光纤接驳管连接，所述喷气架设有引入工作气体的进气口及用于安装所述聚焦头的聚焦头安装孔。

4.如权利要求3所述的激光激发CVD镀膜设备，其特征在于：所述喷嘴为细缝状，所述聚焦头安装孔均匀地并排设于所述喷嘴两侧。

5.如权利要求4所述的激光激发CVD镀膜设备，其特征在于：所述喷气架设有用于固定所述光纤接驳管的固定槽。

6.如权利要求3所述的激光激发CVD镀膜设备，其特征在于：所述移动装置包括具有螺纹的丝杆及驱动该丝杆转动的第一电机，所述喷气架开设有与所述丝杆的螺纹适配的螺孔，所述丝杆穿设于所述螺孔内。

7.如权利要求1所述的激光激发CVD镀膜设备，其特征在于：所述壳体开设有供所述待镀膜材料进入所述CVD腔体的进料口，所述壳体还开设有供所述待镀膜材料离开所述CVD腔体的出料口，所述进料口与所述出料口相对设置且均安装有密封装置。

8.如权利要求7所述的激光激发CVD镀膜设备，其特征在于：所述密封装置包括弹性按压于所述待镀膜材料一面的第一滚筒及弹性按压于所述待镀膜材料另一面的第二滚筒。

9.如权利要求8所述的激光激发CVD镀膜设备，其特征在于：所述密封装置还包括驱动所述第一滚筒或所述第二滚筒转动的第二电机。

10.如权利要求1-9任一项所述的激光激发CVD镀膜设备，其特征在于：所述CVD腔体内安装有水冷散热装置、用于检测待镀膜材料上镀膜厚度的膜厚监控装置、用于监控所述CVD腔体内部环境的视频监控装置、加热装置以及测温装置。