[实用新型]一种薄样掠射X射线荧光光谱分析系统有效
| 申请号： | 201220270630.7 | 申请日： | 2012-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN202870005U | 公开（公告）日： | 2013-04-10 |
| 发明（设计）人： | 董宁;刘攀超;戴煦;陈君;骆成 | 申请（专利权）人： | 深圳市华测检测技术股份有限公司 |
| 主分类号： | G01N23/223 | 分类号： | G01N23/223 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 518057 广东省*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 薄样掠射 射线 荧光 光谱分析 系统 | ||
1.一种薄样掠射X射线荧光（XRF）光谱分析系统，其特征在于，该系统包括：
至少一个X射线源，用于发射初次X射线；
布置在X射线源和试样之间的束调节单元，该束调节单元将X射线源发出的初次X射线滤波为单色光，并整形成条状；
用于放置试样的样品载体，样品载体是光学平坦的，样品载体处于束调节单元出射的X射线的光路上，样品载体的平面与X射线的夹角为一掠射角；
至少一个X射线探测器，布置在样品载体的法线方向，接收由试样产生的荧光X射线；
以及控制单元和记录单元。
2.如权利要求1所述的XRF光谱分析系统，其特征在于，所述束调节单元包括滤波器、狭缝、单色器和光栏。
3.如权利要求2所述的XRF光谱分析系统，其特征在于，所述滤波器为石英玻璃，所述单色器为天然晶体。
4.如权利要求1所述的XRF光谱分析系统，其特征在于，所述样品载体用作试样的衬底，样品载体相对试样而言为光疏介质。
5.如权利要求4所述的XRF光谱分析系统，其特征在于，所述样品载体的材料为金或铂。
6.如权利要求4所述的XRF光谱分析系统，其特征在于，所述掠射角大于试样的全反射临界角，小于样品载体的全反射临界角。
7.如权利要求1所述的XRF光谱分析系统，其特征在于，所述 样品载体在1mm2的面积内粗糙度小于5nm。
8.如权利要求1所述的XRF光谱分析系统，其特征在于，所述试样是薄样，厚度小于100nm。
9.如权利要求1所述的XRF光谱分析系统，其特征在于，所述试样为多层薄样。
10.如权利要求1所述的XRF光谱分析系统，其特征在于，所述探测器为高纯锗探测器。
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