[实用新型]真空吸平装置

权利要求书

1.一种真空吸平装置，用于平整一料片，其特征在于包含：

一气室，包含一气体导流面及一真空吸引单元；

一载台，包含多数第一吸孔，其中该载台设置于该气室上而相邻于该气体导流面，且这些第一吸孔连通于该气体导流面；及

一遮蔽治具，包含一承载区，其中该遮蔽治具设置于该载台上，该承载区对应该料片的一面积设置，而用以承载该料片；

其中，该遮蔽治具遮蔽一部分第一吸孔，该承载区包含多数第二吸孔，这些第二吸孔对应于另一部分第一吸孔而连通于该气体导流面，该真空吸引单元对该气体导流面抽气，而吸持该承载区上的该料片。

2.如权利要求1所述的真空吸平装置，其特征在于，该气体导流面更包含一通孔，连通于该真空吸引单元。

3.如权利要求1所述的真空吸平装置，其特征在于，该气体导流面更包含一用以流通一气体的导流槽。

4.如权利要求1所述的真空吸平装置，其特征在于，该遮蔽治具为一玻璃纤维制成。

5.如权利要求1所述的真空吸平装置，其特征在于更包含一定位件，用以穿设该遮蔽治具而定位该遮蔽治具于该载台上。

6.如权利要求5所述的真空吸平装置，其特征在于，该定位件可拆卸地定位于该载台上。

7.如权利要求1所述的真空吸平装置，其特征在于，这些第一吸孔呈一间隔排列。

8.如权利要求1所述的真空吸平装置，其特征在于，这些第二吸孔的孔径大于这些第一吸孔的孔径。

9.一种真空吸平装置，用于平整一料片，其特征在于包含：

一气室，包含一气体导流面及一真空吸引单元；

一载台，包含多数第一吸孔，其中该载台设置于该气室上而相邻于该气体导流面，且这些第一吸孔连通于该气体导流面；及

一遮蔽治具，包含一承载区，其中该遮蔽治具设置于该载台上，该承载区对应该料片的一面积设置，而用以承载该料片；

其中，该遮蔽治具遮蔽一部分的这些第一吸孔，该承载区包含多数第二吸孔及多数连通槽，这些连通槽位于该遮蔽治具与该载台接触的一面，且对应于另一部分的这些第一吸孔而连通另一部分的这些第一吸孔与这些第二吸孔，并且每一第二吸孔分别对应另一部分的这些第一吸孔的其中之一，该真空吸引单元对该气体导流面抽气，而吸持该承载区上的该料片。 

10.如权利要求9所述的真空吸平装置，其特征在于，该气体导流面更包含一通孔，连通于该真空吸引单元。

11.如权利要求9所述的真空吸平装置，其特征在于，该气体导流面更包含一导流槽，用以流通一气体。

12.如权利要求9所述的真空吸平装置，其特征在于，该遮蔽治具为一玻璃纤维制成。

13.如权利要求9所述的真空吸平装置，其特征在于，更包含一定位件，用以穿设该遮蔽治具而定位该遮蔽治具于该载台上。

14.如权利要求13所述的真空吸平装置，其特征在于，该定位件可拆卸地定位于该载台上。

15.如权利要求9所述的真空吸平装置，其特征在于，这些第一吸孔呈一间隔排列。

16.如权利要求9所述的真空吸平装置，其特征在于，这些第二吸孔的孔径大于这些第一吸孔的孔径。