[发明专利]表面具有微细凹凸结构的透明薄膜、其制造方法及用于制造透明薄膜的基材薄膜有效

专利信息
申请号: 201280043798.7 申请日: 2012-09-07
公开(公告)号: CN103813896B 公开(公告)日: 2016-11-23
发明(设计)人: 内田雅行;小岛克宏;地纸哲哉 申请(专利权)人: 三菱丽阳株式会社
主分类号: B29C59/04 分类号: B29C59/04;B29C39/18;B32B3/30;H01L21/027;B29L7/00;B29L9/00;B29L11/00
代理公司: 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 代理人: 刘新宇;李茂家
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 表面 具有 微细 凹凸 结构 透明 薄膜 制造 方法 用于 基材
【权利要求书】:

1.一种透明薄膜,其中,在具有下述粗糙面的由丙烯酸系树脂形成的基材薄膜的粗糙面上形成有固化层,所述固化层具有凸部或凹部的平均周期为20nm以上且400nm以下的微细凹凸结构,所述粗糙面的基于JIS B0601:2001的最大谷深Pv为0.1~3μm、且基于JIS B0601:2001的轮廓单元的平均宽度RSm为10μm以下,

在进行基于JIS K5400的使用间隔2mm的100个格子的划格法附着力试验时,附着于所述基材薄膜的所述固化层的网格数为51以上。

2.一种透明薄膜的制造方法,其为制造在基材薄膜的表面形成有具有微细凹凸结构的固化层的透明薄膜的方法,该方法具有:

工序(I),在具有下述粗糙面的由丙烯酸系树脂形成的基材薄膜的粗糙面与模具的表面之间夹持活性能量射线固化性树脂组合物,所述模具具有所述微细凹凸结构的反转结构,所述粗糙面的基于JIS B0601:2001的最大谷深Pv为0.1~3μm、且基于JIS B0601:2001的轮廓单元的平均宽度RSm为10μm以下;

工序(II),对所述活性能量射线固化性树脂组合物照射活性能量射线,使所述活性能量射线固化性树脂组合物固化从而形成所述固化层,得到所述透明薄膜;以及

工序(III),将所述透明薄膜与所述模具分离。

3.根据权利要求2所述的透明薄膜的制造方法,其中,在所述工序(II)中,使所述活性能量射线固化性树脂组合物进行固化时的所述模具的表面温度为70℃以上。

4.根据权利要求2所述的透明薄膜的制造方法,其中,所述模具在表面具有凸部或凹部的平均周期为20nm以上且400nm以下的微细凹凸结构。

5.根据权利要求4所述的透明薄膜的制造方法,其中,所述模具的所述微细凹凸结构为多孔阳极氧化铝。

6.一种基材薄膜,其为在表面形成有固化层的透明薄膜的制造中使用的由丙烯酸系树脂形成的基材薄膜,所述固化层具有微细凹凸结构,

该基材薄膜具有基于JIS B0601:2001的最大谷深Pv为0.1~3μm、且基于JIS B0601:2001的轮廓单元的平均宽度RSm为10μm以下的粗糙面。

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