[发明专利]表面具有微细凹凸结构的透明薄膜、其制造方法及用于制造透明薄膜的基材薄膜

说明书

技术领域

本发明涉及表面具有微细凹凸结构的透明薄膜、其制造方法及用于制造透明薄膜的基材薄膜。

本申请基于2011年9月8日于日本申请的特愿2011-195998主张优先权，此处援用其内容。

背景技术

近年来，已知表面具有周期为可见光波长以下的微细凹凸结构的物品显现防反射效果、荷叶效应等。特别是已知被称为蛾眼（Moth-Eye）结构的凹凸结构的折射率从空气的折射率向物品的材料的折射率连续增大，是有效的防反射手段。

表面具有微细凹凸结构的物品例如通过将表面具有微细凹凸结构的透明薄膜（以下，将“表面具有微细凹凸结构的透明薄膜”简称为“透明薄膜”。）贴附于物品主体的表面而得到。

作为透明薄膜的制造方法，例如已知有包括下述工序（i）～（iii）的方法（例如专利文献1）。

工序（i），在表面具有微细凹凸结构的反转结构的模具与作为透明薄膜主体的基材薄膜之间夹持活性能量射线固化性树脂组合物。

工序（ii），对活性能量射线固化性树脂组合物照射活性能量射线，使活性能量射线固化性树脂组合物固化从而形成具有微细凹凸结构的固化层，得到透明薄膜。

工序（iii），将模具与透明薄膜分离。

作为前述基材薄膜，通常使用光学用途的薄膜。但是，对于光学用途的薄膜来说要求高透明性（高透过率、低雾度），所以表面被精加工成平滑的。因此，会有基材薄膜与固化层的界面的密合性不充分的情况，在前述工序（iii）中会有基材薄膜与固化层的界面处发生剥离而固化层不与模具分离的情况。另外，还会有即使能够与模具分离，基材薄膜和固化层之间的密合性也不充分的情况。特别是使用由丙烯酸系树脂形成的薄膜作为基材薄膜时，难以确保基材薄膜的表面与固化层之间的密合性。

为了改善前述那样的脱模不良、密合不良，提出了使用表面经过粗糙化的基材薄膜的制造方法（专利文献2）。通常，活性能量射线固化性树脂组合物与基材薄膜的折射率相同，只要各层密合就看不到分界面。但是，此方法中，存在深度为需要以上的凹坑时，活性能量射线固化性树脂组合物未进入凹坑，由于凹坑中残留的空气与基材薄膜、固化层的材料的折射率差而产生外观不良。

特别是，表面具有周期为可见光波长以下的微细凹凸结构的透明薄膜，防反射性能非常优异、透明性高，因此以往的光学薄膜中目测不到的缺陷也会很明显。因此，表面具有周期为可见光波长以下的微细凹凸结构的透明薄膜中，需要用固化层完全埋盖基材薄膜的凹凸而不使凹坑中残留空气。

现有技术文献

专利文献

专利文献1:日本特开2007-076089号公报

专利文献2:日本特开2010-201641号公报

发明内容

发明要解决的问题

本发明提供具有微细凹凸结构的固化层与基材薄膜的界面的密合性优异、且外观品质良好的透明薄膜，能够稳定地制造透明薄膜的方法，以及与具有微细凹凸结构的固化层的密合性优异、且具有活性能量射线固化性树脂组合物容易进入凹坑的粗糙面的基材薄膜。

用于解决问题的方案

（1）本发明的透明薄膜的一种实施方式，该透明薄膜中，在具有下述粗糙面的由丙烯酸系树脂形成的基材薄膜的粗糙面上形成有固化层，前述固化层具有凸部或凹部的平均周期为20nm以上且400nm以下的微细凹凸结构，前述粗糙面的基于JIS B0601：2001的最大谷深Pv为0.1～3μm、且基于JIS B0601：2001的轮廓单元的平均宽度RSm为10μm以下，在进行基于JIS K5400的使用间距2mm的100个格子的划格法附着力试验时，附着于前述基材薄膜的前述固化层的网格数为51以上。