[发明专利]直接液体淀积

权利要求书

1.一种制造带涂层的基底的方法，包括：

a)在真空容器中提供蒸气分配喷嘴组件，所述喷嘴组件包括喷射开口组件；

b)在所述真空容器中提供至少一个基底的基底组件；

c)最晚在所述基底组件设置在所述真空容器中时抽空所述真空容器；

d)蒸馏包含溶于溶剂中的涂层物质的液体前体材料，以便回收所述涂层物质；

e)将所述涂层物质直接进料到汽化并且以热的方式使所回收的涂层物质的一部分作为预定部分汽化；

f)将所汽化的涂层物质的至少一部分通过所述喷射开口组件喷射到所述真空容器中，从而在所述基底组件上建立所述涂层物质的涂层；

g)在所述涂布之后从所述真空容器移除所述基底组件。

2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括在单次注料中喷射所述汽化的产物。

3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括在不止一次离散的注料中喷射所述汽化的产物。

4.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述涂布由所述预定部分中的单个进行。

5.根据权利要求4所述的方法，其特征在于，所述涂布通过喷射所述汽化的产物的一次或不止一次离散注料来进行。

6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括将气体的流添加到所述喷射。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述气体为惰性气体。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述惰性气体为氩气和氮气中的至少一种。

9.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，包括至少在所述涂布期间以不间断方式建立所述流。

10.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括在气体的层流中朝所述喷射输送所述汽化的产物。

11.根据权利要求10所述的方法，其特征在于，所述气体为惰性气体。

12.根据权利要求11所述的方法，其特征在于，所述惰性气体为氩气和氮气中的至少一种。

13.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括使所述汽化的产物在所述真空容器中膨胀。

14.根据权利要求13所述的方法，其特征在于，所述膨胀以下列方式中的至少一种进行：

15.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，蒸馏所述前体材料在降低的压力和增加的温度中的至少一个下进行。

16.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述喷射以下列方式中的至少一种进行：

17.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述至少一个基底的表面通过下列方式中的至少一种预处理：通过反应离子蚀刻；和通过淀积透明层。

18.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述至少一个基底的表面通过淀积SiO₂、SiN、A1₂O₃、A1N中的至少一个的透明层预处理。

19.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括在汽化隔室中汽化和从所述汽化隔室喷射所述汽化的产物，从而在所述汽化隔室和所述真空容器中的至少一个中建立压力过程，所述压力过程由于所述汽化而升高至最大值并且在从达到所述最大值起最多10秒内下降在所述汽化隔室和所述真空容器中的所述至少一个的相应的一个中的所述升高的值的一半。

20.根据权利要求19所述的方法，其特征在于，包括在所述汽化隔室和所述真空容器中的所述至少一个中的相应的一个中建立压力过程，所述压力过程由于所述汽化而升高至所述最大值并且从达到所述最大值起至少0.5秒内下降所述汽化隔室和所述真空容器中的所述至少一个中的所述相应的一个中的所述升高的值的一半。

21.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括在至多30毫秒内将所述预定部分提供至所述汽化。

22.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，包括感测随由于所述汽化而生成的压力变化的压力以及利用所述感测的结果以进行过程监测和过程控制中的至少一个。