[发明专利]基于聚焦离子束刻蚀光波导的方法有效
| 申请号： | 201310038365.9 | 申请日： | 2013-01-31 |
| 公开（公告）号： | CN103064147A | 公开（公告）日： | 2013-04-24 |
| 发明（设计）人： | 杨琳娟;姜潇潇;谷琼婵;宋爱娟;梁丽勤;吕江涛;王凤文;司光远 | 申请（专利权）人： | 东北大学秦皇岛分校 |
| 主分类号： | G02B6/136 | 分类号： | G02B6/136 |
| 代理公司： | 北京路浩知识产权代理有限公司 11002 | 代理人： | 王莹 |
| 地址： | 066004 河北省秦皇岛市经*** | 国省代码： | 河北;13 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 基于 聚焦 离子束 刻蚀 波导 方法 | ||
【权利要求书】：
1.一种基于聚焦离子束刻蚀光波导的方法，其特征在于，该方法包括：
S1、设计一种纳米圆环阵列结构，所述纳米圆环阵列结构中纳米圆环互相紧贴，光波导的刻蚀宽度值为两倍的圆环宽度；
S2、将所述纳米圆环阵列结构保存到聚焦离子束刻蚀系统中；
S3、从聚焦离子束系统中调用所述纳米圆环阵列结构，聚焦离子束轰击样品表面进行刻蚀，完成制备。
2.如权利要求1所述方法，其特征在于，所述光波导的刻蚀宽度最小值为20nm。
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