[发明专利]一种先镀膜后BM方式非搭桥而实现多点触控的一体式电容屏制作方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种非搭桥而实现多点触控的一体式电容屏及其制作方法。

背景技术

目前市面上制作一体式电容屏的厂家，他们通常的制程都是先将预先经过钢化处理的透明基板玻璃通过丝印BM后再镀膜来做，因为丝印用的黑色或者其他颜色的油墨用量较大，在镀膜时温度通常都高达200℃以上，在这种温度下，油墨会释放杂质气体影响镀膜腔室的洁净度与真空度，从而影响成膜质量，另外一点，由于丝印的油墨层厚度较大，往往在10um以上，而濺镀的ITO膜层在200nm以内，由于油墨边缘的高度差会导致ITO导电层存在断层。这些难题严重影响了一体式电容屏的生产效率及良率。

当前多点触控的电容屏设计方式有双层图案、单层图案两种。 

互电容式的双层图案触摸屏的原理是TX与RX两个电极合并在一起，形成电容式触摸屏的感应sensor。但是双层图案设计使用在一体式电容屏上面必须通过搭桥的工艺。TX与RX合并后两电极有交叉，合并在一起时必须需要两层电极来实现，强行合在同一层电极的话，交叉的地方将会电极间短路无法实现触摸感应senosr；用搭桥的工艺非常复杂、良率又低，设备投入非常高，无法实现成本降低。

自电容方式的单层设计：为了迎合市场的需求、多数厂家发明了减少结构层数来降低成本的方法，这种设计主要采用横三角或者纵三角图案的方式。单层图案设计虽然有很大的成本优势，但是存在如下问题：这种单层的设计方式只能实现单点加手势的功能，同时IC用的是自电容的处理方式，无论是在抗干扰方面还是在触摸点数，甚至连触摸手感都大大降低，稳定性不好，图片放大缩小都有方向性的要求等。此图案是单层的设计、直接发送信号，当人体手指感应即为信号接收。实现了单层电极实现功能，虚拟的两点触摸；但两点放大缩小都有方向性的要求，精准度方面偏移公差比较大。金属外壳的时候还是需要加屏蔽层，又会变成两层结构的电容式触摸屏，没有优势可以体现。 

发明内容

为克服背景一中提到的制程不合理及背景二中提到的双层图案搭桥方式工艺复杂且设备要求高、单层图案性能差的问题，本发明采用先丝印BM再镀膜的方式来解决传统一体式电容屏生产中镀膜时存在的难题，并且用全新的线路交叉设计通过激光蚀刻工艺来实现独特的单层图案多点触控一体式电容屏。

本发明是这样实现的：方法为：

1）基板玻璃做化学强化处理；

2）在基板玻璃上面将需要绑定FPC排线的位置丝印一块底色，底色与成品镜片的BM颜色一致，区域大小略大于FPC绑定区域；

3）在基板玻璃的表面溅镀ITO膜层；

4）通过激光蚀刻制作ITO导电图案，此ITO图案可实现单层多点触控；

5）丝印黑色BM，并将需要绑定位置的绑定的Pad镂空预留出来；

6）在需要绑定的区域即在镂空的Pad区域印刷导电银浆Pad；

7）在FPC排线上贴好ACF后，再与Cover绑定；

8）成品功能检测。

这种电容屏包括透明玻璃基板及依次堆叠在ITO导电图案层、有色BM层、绝缘保护层。其ITO导电图案层为磁控溅射形成，且采用非搭桥的方式实现单层图案多点触控。其有色BM层为采用丝印的方式形成。其绝缘保护层为镀膜层、涂层或有机薄膜。其结构的特征之处为ITO导电图案的形成是在丝印有色BM层之前。其制作方式的特征之处为可实现多点触控的ITO导电图案采用激光工艺加工而成。

本发明的技术效果是：创新的先镀膜再BM的制作方式，避免了传统的一体式电容屏生产中镀膜时存在的各种问题。同时，采用非搭桥工艺的单层多点触控一体式电容屏，由于采用激光工艺来完成，简化了生产工艺，减少了设备方面的投入，极大的提升了生产效率和良率，并且激光蚀刻工艺相比传统蚀刻方式在环保方面更具优势。

具体实施方式

1）基板玻璃做化学强化处理；

2）在基板玻璃上面将需要绑定FPC排线的位置丝印一块底色，底色与成品镜片的BM颜色一致，区域大小略大于FPC绑定区域；

3）在基板玻璃的表面溅镀ITO膜层；

4）通过激光蚀刻制作ITO导电图案，此ITO图案可实现单层多点触控；

5）丝印黑色BM，并将需要绑定位置的绑定的Pad镂空预留出来；

6）在需要绑定的区域即在镂空的Pad区域印刷导电银浆Pad；

7）在FPC排线上贴好ACF后，再与Cover绑定；

8）成品功能检测。

显然，本领域的技术人员可以对本发明进行各种修改和变动而不脱离本发明的精神和范围。这样，倘若本发明的这些修改和变动属于本发明权利要求及其等同技术的范围之内，则本发明也意图包含这些修改和变动在内。