[发明专利]基于控制点和控制线邻域变形的个性化人像产品设计方法无效
申请号: | 201310088000.7 | 申请日: | 2013-03-19 |
公开(公告)号: | CN103198520A | 公开(公告)日: | 2013-07-10 |
发明(设计)人: | 李丽;王名亮;孙园园;王舟洲;刘飞;刘润 | 申请(专利权)人: | 重庆大学 |
主分类号: | G06T17/00 | 分类号: | G06T17/00;G06T7/00 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 400044 *** | 国省代码: | 重庆;85 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 基于 控制 邻域 变形 个性化 人像 产品设计 方法 | ||
1.一种基于控制点和控制线变形的个性化人像产品设计方法,其特征在于所述方法包括如下步骤:
第一步,图像归一化处理,其中,设正面图像眼角到嘴角高度为Hf,侧面图像眼角到嘴角高度为Hp,标准模板图像眼角到嘴角高度为H,归一化方法为:
Hf=Hp=H (1)
第二步,二维特征点提取,在正面图像和侧面图像上分别定义人脸五官的11个特征点,分别与标准模型中相应的特征点进行对应;
第三步,标准模型的个性化变形,其中,根据第二步提取的五官特征点进行个性化变形,包括人脸五官11个特征点的变形和其他点的变形;
11个特征点的变形方法为:
从正面图像提取的11个二维特征点决定标准模型中对应点的X和Y坐标值,侧面图像提取的11个二维特征点决定标准模型中对应特征点的Z坐标值,将标准模型按照特征点确定的新坐标进行变形从而确定个性化人脸11个特征点位置;
其他点采用径向基插值法进行变形,具体方法为:
基函数由单个变量函数构成,设点(x,y)的基函数的形式为:
hk(x,y)=h(dk) (2)
其中,dk指由点(x,y)到第k个数据点的距离;插值公式为:
其中,qk(x,y)是一多项式基,阶次小于m;系数ak和bk满足下面方程组:
方程组共有m+n个方程式,联立求解便可得到待定系数;
对于特征点i,其变形后个性化人脸坐标记为pi=(xi,yi,zi),变形前标准模型坐标记为pi(0)=(xi(0),yi(0),zi(0)),则该点的位移计算式为:
ui=pi-pi(0)
人脸模型上每一点的位移记为u,取f(p)满足f(pi)=ui,这样标准模型上的每一点pj的位移可从f(pj)中得到;径向基函数如下所示:
其中,n为特征点数目,ci为特征点pi对应的权系数,φ为径向基函数,选取高斯函数,即M和t分别是3×3矩阵和3×1向量;通过式(6)可确定系数ci、M和t;
第四步,基于控制点邻域变形的人像产品点区域优化,其中,基于控制点邻域变形的人像产品点区域优化算法如下所述:
建立坐标系,Zc为变形起始点,Zc'为变形后位置,则变形区域内任一点Z变形后新位置Z'的计算方程为:
Z'=Z+f (7)
f为变形函数,其计算方程为:
h控制变形幅度,沿控制点曲面的法向方向变形;r1表示变形影响区域;r2控制变形的陡峭程度;Zmin指与变形起始点最近的点;表示变形起始点Zc所在曲面的法向方向;t表示变形的次数;
第五步,基于控制线邻域变形的人像产品线区域优化,其特征为:设约束曲线上的顶点为Zi,Zi即为所有控制点(i=1,…,n),Zi'为Zi变形后的位置,下标i的顺序与Zi在控制曲线上的顺序一致;控制线上任一点Z变形后新位置Z'计算式为:
其中,
2.根据权利要求1所述的基于控制点和控制线变形的个性化人像产品设计方法,其特征在于:基于控制线变形的人像优化方法的另一特征为,变形可实现沿控制线方向的非均匀变形,非均匀变形实现方法为:公式(9)中Zi'计算式中hi做如下变形:
控制曲线C,长度为L,端点为A和B,l为控制线上任一点Z到其中点的距离,h0为用户自定义的变形高度初始值,则控制线上控制点处的变形高度hi的计算式定义为:
α和β表示模型沿控制线非均匀变化的比例,α≤β且α,β,l∈[-L/2,L/2];
其中,拐点M和N用百分比进行确定,则α和β由下面公式进行确定
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