[发明专利]一种等离子体沉积及刻蚀系统

权利要求书

1.一种等离子体沉积及刻蚀系统，包括：腔体、设置在腔体内的阴极载物台，上栅极，加热装置，其特征在于，还包括用于冷却上栅极的冷却装置；用于为上栅极、加热装置以及加热装置、阴极之间提供偏压的偏压电源。

2.如权利要求1所述的等离子体沉积及刻蚀系统，其特征在于，所述加热装置为灯丝加热装置，所述灯丝加热装置包括：灯丝、设置在腔体内的两个平行的灯丝架；所述灯丝加热装置至少包括两根灯丝，至少两根灯丝均匀、相互平行的排布在灯丝架上。

3.如权利要求2所述的等离子体沉积及刻蚀系统，其特征在于，所述灯丝架的横杆上套设有用于固定灯丝的定滑轮，至少灯丝的一端连接有弹簧，且通过弹簧固定在灯丝架的下部。

4.如权利要求2所述的等离子体沉积及刻蚀系统，其特征在于，所述灯丝架的上还设置有灯丝限位装置，其设置于灯丝上部，用于压住灯丝防止灯丝通电瞬间跳动导致短路。

5.如权利要求1所述的等离子体沉积及刻蚀系统，其特征在于，所述冷却装置为设置在上栅极内部的循环水系统。

6.如权利要求1所述的等离子体沉积及刻蚀系统，其特征在于，所述偏压电源的控制装置为LC电路控制装置。

7.如权利要求1所述的等离子体沉积及刻蚀系统，其特征在于，所述灯丝是半径为0.5mm的Ta丝，所述灯丝架为金属Cu结构。

8.如权利要求1所述的等离子体沉积及刻蚀系统，其特征在于，所述上栅极为与衬底直径相同的圆形Ta片结构。

9.如权利要求1所述的等离子体沉积及刻蚀系统，其特征在于，所述腔体的真空度能够达到1Pa以下。

10.如权利要求2所述的等离子体沉积及刻蚀系统，其特征在于，还包括用于为灯丝加热装置提供电源的灯丝电源，所述灯丝电源为交流恒流电源；为所述上栅极、灯丝加热装置提供偏压的为栅极电源，所述栅极电源为直流恒流电源，以及为灯丝加热装置、衬底之间提供偏压的衬底电源，该衬底电源为偏压直流电源。