[发明专利]一种具有纳米孔结构的超黑涂层制备方法

权利要求书

1.一种具有纳米孔结构的超黑涂层制备方法，其特征在于：其制备步骤为：

（1）前处理：对金属基体材料表面进行清洗和活化，以利于后续化学复合镀镀层的附着；

（2）化学复合镀镍磷碳：先将配制好的化学镀液进行超声震荡均匀，然后在75-90℃的施镀温度条件下将第（1）步处理后的基体材料放入化学镀液中施镀，施镀时间为1-3h，化学镀液pH为3-6，使金属基体材料表面沉积镍磷碳合金镀层，然后水洗、干燥；所述化学镀液各组分及浓度分别为硫酸镍25-40g/L、次亚磷酸钠20-30g/L、缓冲剂10-20g/L、络合剂25-35g/L、炭黑0.5-3g/L，其余为去离子水或蒸馏水，其中炭黑的粒径为20-60 nm；

（3）化学刻蚀：用刻蚀酸液对金属基体材料表面镍磷碳合金镀层进行化学刻蚀，水洗、干燥，即制备得到具有纳米孔结构的超黑涂层；其中刻蚀酸液为硝酸，硝酸浓度为6-9mol/L，刻蚀温度为20-50℃，刻蚀时间10-120s。

2.根据权利要求1所述的具有纳米孔结构的超黑涂层制备方法，其特征在于：所述步骤（2）中缓冲剂为乙酸或乙酸钠中任何一种。

3.根据权利要求1所述的具有纳米孔结构的超黑涂层制备方法，其特征在于：所述步骤（2）中络合剂为柠檬酸、乳酸中任何一种或两种任意比例的混合物。

4.根据权利要求1所述的具有纳米孔结构的超黑涂层制备方法，其特征在于：本方法制备得到的超黑涂层，其表面均匀分布着孔径为1-20μm的大小不一的微米锥形孔，在微米锥形孔的内表面和相邻锥形孔之间的平面区域充满孔径＜100nm的纳米孔。