[发明专利]曝光装置及曝光方法

说明书

技术领域

本发明涉及曝光装置及曝光方法。

背景技术

公知是通过2个不同的图案（パターン）曝光膜片的曝光装置（例如，参照专利文献1）。

专利文献1：美国专利申请公开第2011/0217638号说明书

发明内容

发明要解决的问题

在上述的曝光装置中，由于一图案的一端和另一图案的一端大致形成在同一位置，因此透过一图案的光和透过另一图案的光在膜片前发生交叉串扰。结果，存在膜片以与2个图案不同的图案被曝光的技术问题。

用于解决问题的方案

本发明的第1技术方案中提供了一种曝光装置，其包括，用于保持膜片的膜片保持部、形成有第1图案以及与所述第1图案分开的第2图案的掩模、以及对所述掩模照射光束并由经过了所述第1图案或所述第2图案的光束将所述膜片曝光的曝光部,所述曝光部具有输出用于照射所述第1图案的第1光束的第1光输出部、以及具有与所述第1光输出部输出的所述第1光束的主光线交叉的主光线并输出用于照射所述第2图案的第2光束的第2光输出部。所述膜片保持部在比所述第1光束和所述第2光束交叉的位置靠近所述掩模的位置保持所述膜片。

本发明的第2技术方案中提供了一种曝光方法，其包括：保持膜片的膜片保持阶段、和对形成有第1图案以及与所述第1图案分开的第2图案的掩模照射光束并由经过了所述第1图案或所述第2图案的光束将所述膜片曝光的阶段,在所述曝光阶段中，输出用于照射所述第1图案的第1光束并且输出具有与所述第1光束的主光线交叉的主光线并用于照射所述第2图案的第2光束,在所述膜片保持阶段中，在比所述第1光束和所述第2光束交叉的位置靠近所述掩模的位置配置所述膜片。

另外，上述发明内容并不是列举出本发明的全部必要特征，这些特征组的子组合也能构成发明。

附图说明

图1为根据本实施方式制造的光学膜片100的整体俯视图。

图2为沿图1的II-II线的纵剖视图。

图3为设置有光学膜片100的立体图像显示装置的分解立体图。

图4为本实施方式涉及的曝光装置10的整体结构图。

图5为曝光部18的放大图。

图6为掩模38的仰视图。

图7为掩模38的沿图6的VII-VII线的纵剖视图。

图8是说明变更后的掩模238的图。

图9是说明变更后的掩模338的图。

图10是说明变更后的偏振光光源434的图。

图11是说明变更后的偏振光光源534的图。

附图标记说明

10曝光装置、12送出辊、13洗净部、14取向膜涂覆部、16取向膜干燥部、18曝光部、20液晶膜涂覆部、22液晶膜取向部、24液晶膜固化部、26分离膜片供给部、28卷取辊、34偏振光光源、38掩模、40掩模保持部、44上游侧张力辊、46下游侧张力辊、48保持辊、50第1偏振光输出部、52第2偏振光输出部、56掩模基材、58遮光层、62第1透过区域、64第2透过区域、70第1光束、72第2光束、74第1主光线、76第2主光线、80第1图案区域、81遮光区域、82第2图案区域、90膜片、92分离膜片、100光学膜片、102树脂基材、104第1偏振光调制部、106第2偏振光调制部、110箭头、112箭头、114箭头、116箭头、120取向膜、122液晶膜、124第1取向区域、126第2取向区域、128第1液晶区域、130第2液晶区域、150立体图像显示装置、152光源、154图像输出部、158光学功能膜、164偏振板、166保持基板、168图像生成部、170保持基板、174偏振板、178右眼用图像生成部、180左眼用图像生成部、190偏振光眼镜、192右眼用调制部、194左眼用调制部、238掩模、256掩模基材、258遮光层、260中心、338掩模、356掩模基材、358遮光层、434偏振光光源、450第1偏振光输出部、451第1偏振元件、452第2偏振光输出部、453第2偏振元件、534偏振光光源、551第1偏振元件、550第1光源部、553第2偏振元件、552第2光源部、555偏振构件、557遮光部。

具体实施方式