[发明专利]再剥离用水分散型丙烯酸类粘合剂组合物、粘合片以及光学构件

说明书

技术领域

本发明涉及能够形成具有低湿度下的抗静电性的粘合剂层的水分散型丙烯酸类粘合剂组合物。详细而言，涉及能够形成在低湿度环境下的剥离时，能够无被粘物依赖性地防止带电的(抗低湿剥离静电性)、粘合性和再剥离性优异的粘合剂层的再剥离用水分散型丙烯酸类粘合剂组合物。另外，涉及设置有由前述粘合剂组合物形成的粘合剂层的粘合片。

背景技术

在以偏光板、相位差板、防反射板等光学薄膜为代表的光学构件(光学材料)的制造·加工工序中，为了防止表面损伤、污染、提高切断加工性、抑制裂纹等，在光学构件的表面上贴附使用表面保护薄膜(参照专利文献1、2)。作为这些表面保护薄膜，一般使用在塑料薄膜基材的表面上设有再剥离性的粘合剂层的再剥离性的粘合片。

以往，在这些表面保护薄膜用途中，作为粘合剂，使用溶剂型的丙烯酸类粘合剂(参照专利文献1、2)，由于这些溶剂型丙烯酸类粘合剂含有有机溶剂，因此，从涂覆时的操作环境性的观点考虑，试图将其转换为水分散型的丙烯酸类粘合剂(参照专利文献3～5)。

对这些表面保护薄膜要求在贴附于光学构件的过程中发挥充分的粘合(粘接)性。进而，由于其在光学构件的制造工序等中使用之后会被剥离，因此要求优异的剥离性(再剥离性)。

另外，通常表面保护薄膜、光学构件由塑料材料构成，因此电绝缘性高，在摩擦、剥离时产生静电。因此，将表面保护薄膜从偏光板等光学构件剥离时，有静电产生，若以此时产生的静电保持残留的状态对液晶施加电压，则存在液晶分子的取向损失、另外面板产生缺损的问题。

进而，静电的存在有可能会引起吸引灰尘、碎屑这样的问题、操作性降低问题等。因此，为了消除上述问题点，对表面保护薄膜实施了各种抗静电处理。

作为抑制带静电的尝试，公开了在粘合剂中添加低分子的表面活性剂，使表面活性剂从粘合剂中转印到被保护体的抗静电的方法(例如，参照专利文献6)。但是，该方法中，添加的低分子的表面活性剂容易向粘合剂表面渗出，在应用于表面保护薄膜时，担心会对被粘物(被保护体)造成污染。

进而，在表面保护薄膜用途(特别是光学构件的表面保护薄膜用途)等中，剥离粘合片时的粘合剂在被粘物(光学构件等)表面的残留(所谓的“残胶”)会成为对光学构件的光学特性造成不良影响等的问题，因此对粘合剂、粘合剂层要求优异的轻剥离性(再剥离性)。

另外，对作为被粘物的光学构件等贴附表面保护薄膜、然后在低湿度环境下剥离时，根据被粘物的表面状态，有可能与通常湿度环境下相比较而带电压变高，有上述那样的问题发生。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开平11-961号公报

专利文献2：日本特开2001-64607号公报

专利文献3：日本特开2001-131512号公报

专利文献4：日本特开2003-27026号公报

专利文献5：日本特许第3810490号说明书

专利文献6：日本特开平9-165460号公报

发明内容

发明要解决的问题

然而，现状是：如上所述，这些均未能平衡良好地解决上述问题点，在带电等成为尤其严重的问题的电子设备相关的技术领域中，对具有抗静电性等的表面保护薄膜，难以应对进一步的改良要求，进而，无法得到具有优异的再剥离性的水分散型丙烯酸类粘合剂。

因此，本发明的目的在于，提供一种在低湿环境下剥离时可形成能够防止被粘物的带电(抗静电性)、粘合性和再剥离性优异的粘合剂层的、再剥离用途的水分散型的丙烯酸类粘合剂组合物。另外，在于提供具有利用前述粘合剂组合物的粘合剂层的粘合片。

用于解决问题的方案

本发明人等为了达成上述目的而进行了深入研究，结果发现，将利用特定组成的原料单体而得到的具有特定平均粒径的丙烯酸乳液类聚合物、交联剂以及离子性化合物作为构成成分，可得到能够形成在低湿度环境下剥离时能够不依赖于被粘物地防止带电(抗低湿剥离静电性)、粘合性和再剥离性优异的粘合剂层的、再剥离型水分散型的丙烯酸类粘合剂组合物，从而完成了本发明。