[发明专利]堆叠膜阈构件、装置和制造方法在审
| 申请号： | 201310327617.X | 申请日： | 2013-07-31 |
| 公开（公告）号： | CN103578493A | 公开（公告）日： | 2014-02-12 |
| 发明（设计）人： | 史晓蕾;E.P.博登;陈国邦;P.W.洛琳;V.P.奥斯特罗弗霍夫;赵日安 | 申请（专利权）人： | 通用电气公司 |
| 主分类号： | G11B7/0065 | 分类号： | G11B7/0065;G11B7/007;G11B7/24038;G11B7/24044 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人： | 肖日松;谭祐祥 |
| 地址： | 美国*** | 国省代码： | 美国;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 堆叠 构件 装置 制造 方法 | ||
【权利要求书】：
1. 一种构件，其包括：
微全息图层，其中，所述微全息图层包括与多个功能膜层交错的多个对光呈惰性的层，其中，所述多个功能膜层包括在被第一光束照射时经历其折射率的变化并在被第二光束照射时不经历其折射率的变化的材料。
2. 一种构件，其包括与权利要求1的微全息图层交错的多个隔膜。
3. 根据权利要求2所述的构件，其特征在于，所述多个隔膜对光呈惰性。
4. 根据权利要求2所述的构件，其特征在于，所述多个隔膜具有从大约20x至大约100x的瑞利长度的厚度。
5. 根据权利要求2所述的构件，其特征在于，第一隔膜具有与第二隔膜不同的厚度。
6. 根据权利要求1所述的构件，其特征在于，所述微全息图层的周期限定为P，其中
P=λ/2n
此外，其中，λ是读出光束的光波长，而n是微全息图层中的所述多个对光呈惰性的层和功能膜层的有效折射率。
7. 根据权利要求1所述的构件，其特征在于，微全息图层的厚度在从大约0.5μm至大约10μm的范围内。
8. 根据权利要求1所述的构件，其特征在于，绝对指数变化在从大约0.001至大约0.05的范围内。
9. 根据权利要求1所述的构件，其特征在于，所述微全息图层的反射率当在记录状态期间利用高强度光照射时变化。
10. 根据权利要求2所述的构件，其特征在于，微全息图层的数量在从2至50的范围内。
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