[发明专利]一种光掩模及光掩模套刻精度的监测方法

权利要求书

1.一种光掩模套刻精度的监测方法，其特征在于，至少包括以下步骤：

1)提供一包括图形区域及外围区域的光掩模，至少于所述外围区域四个角落的预设中心坐标制作标记图形，其中，所述标记图形由两个垂直相交的横向矩形与纵向矩形组成；

2)测量各该标记图形的实际中心坐标，并计算出各该标记图形的实际中心坐标与预设中心坐标的偏移量；

步骤2)包括以下步骤：

2-1)设置与所述横向矩形垂直相交的纵向测试框及与所述纵向矩形垂直相交的横向测试框，并设定所述横向测试框的纵向中垂线及所述纵向测试框的横向中垂线的交点坐标为测试中心坐标；

2-2)将所述测试中心坐标移动至任一标记图形的预设中心坐标的位置；

2-3)采用摄像设备获得所述横向测试框及所述纵向测试框中的光强分布，依据该光强分布获得所述标记图形的实际中心坐标；

2-4)计算出所述标记图形的实际中心坐标与预设中心坐标的偏移量。

2.根据权利要求1所述的光掩模套刻精度的监测方法，其特征在于：所述光掩模由透光层及结合于所述透光层表面的遮光层组成，所述标记图形为去除了部分遮光层所形成的透光图形。

3.根据权利要求1所述的光掩模套刻精度的监测方法，其特征在于：所述横向矩形与纵向矩形的中心重合，且所述横向矩形与纵向矩形的尺寸相同。

4.根据权利要求1所述的光掩模套刻精度的监测方法，其特征在于：所述横向矩形的宽度为100～300um，高度为2～20um，所述纵向矩形的宽度为2～20um，高度为100～300um。

5.根据权利要求1所述的光掩模套刻精度的监测方法，其特征在于：所述标记 图形距离所述光掩模的任一边界的水平距离和垂直距离均不小于5mm。

6.根据权利要求1所述的光掩模套刻精度的监测方法，其特征在于：还包括步骤2-5)，依据步骤2-1)～2-4)计算出所有标记图形的实际中心坐标与预设中心坐标的偏移量。