[发明专利]液晶排放量测量单元、排放量测量方法以及基板处理装置有效

专利信息
申请号: 201310390586.2 申请日: 2013-08-30
公开(公告)号: CN103676226A 公开(公告)日: 2014-03-26
发明(设计)人: 朴铁镐 申请(专利权)人: 细美事有限公司
主分类号: G02F1/13 分类号: G02F1/13;B05C5/00;B05C11/10
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 韩国忠淸南道天*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要:
搜索关键词: 液晶 排放量 测量 单元 测量方法 以及 处理 装置
【权利要求书】:

1.一种基板处理装置,包括:

基板支承构件,用于支承基板;

喷嘴单元,包括喷嘴头,在所述喷嘴头设有向所述基板喷射处理液的多个喷嘴;以及

液晶排放量测量单元,具有测量从所述喷嘴排出的所述处理液的排放量的测量构件,

所述液晶排放量测量单元包括:

回收盒,在其内部具有收容排出的处理液的存储空间;

机体,设在所述回收盒的上方,在所述机体的内部形成有多个通道;以及

排放量测量仪,其数量与所述各通道对应,用于测量通过所述各通道的处理液的量,

所述各通道从所述机体上表面延伸至底面形成,所述通道与所述存储空间相通。

2.根据权利要求1所述的基板处理装置,

所述液晶排放量测量单元还包括,对所述存储空间施加真空的真空施加构件。

3.根据权利要求1所述的基板处理装置,

所述排放量测量仪包括:

第一排放量测量仪,位于所述机体内部,向与所述通道垂直的方向延伸,用于测量通过多个所述通道内部的流体;以及

第二排放量测量仪,位于所述第一排放量测量仪下方,并与所述第一排放量测量仪平行,用于测量通过多个所述通道内部的流体。

4.根据权利要求1所述的基板处理装置,

所述通道与所述喷嘴的数量一致。

5.根据权利要求1至4的任一项所述的基板处理装置,

所述液晶排放量测量单元还包括,

移动构件,位于所述基板支承构件的一侧,并且将所述液晶排放量测量单元移动到喷嘴单元。

6.根据权利要求1所述的基板处理装置,

所述液晶排放量测量单元还包括,可连接到所述喷嘴头的连接构件。

7.一种包括测量构件的液晶排放量测量单元,所述测量构件用于测量从喷嘴排出的处理液的排放量,

所述液晶排放量测量单元,包括:

回收盒,在其内部具有收容排出的处理液的存储空间;

机体,设在所述回收盒的上方,在所述机体的内部形成有多个通道;以及

排放量测量仪,其数量与所述各通道对应,用于测量通过所述各通道的处理液的量,

所述各通道从所述机体上表面延伸至底面形成,所述通道与所述存储空间相通。

8.根据权利要求7所述的液晶排放量测量单元,

所述液晶排放量测量单元,还包括:向所述存储空间施加真空的真空施加构件。

9.根据权利要求7所述的液晶排放量测量单元,

所述排放量测量仪,包括:

第一排放量测量仪,位于所述机体内部,向与所述通道垂直的方向延伸,用于测量通过多个所述通道内部的流体;以及

第二排放量测量仪,位于所述第一排放量测量仪下方,并与所述第一排放量测量仪平行,用于测量通过多个所述通道内部的流体。

10.根据权利要求7所述的液晶排放量测量单元,

所述通道与所述喷嘴的数量一致。

11.根据权利要求7至10的任一项所述的液晶排放量测量单元,

所述液晶排放量测量单元,还包括:可连接到所述喷嘴头的连接构件。

12.一种在权利要求1的基板处理装置中测量处理液排放量的方法,包括:

在所述喷嘴处测得的所述处理液进行排出的步骤;

所述处理液进入所述通道的步骤;

测量通过所述通道的所述处理液的步骤;以及

所述处理液回收到所述回收盒的步骤,

测量所述处理液的步骤是:测量通过所述通道的第一领域的两端的时间,从而测得所述处理液的体积。

13.根据权利要求12所述的测量处理液排放量的方法,

所述处理液进入所述通道的步骤是:向所述通道的下方提供一定量的真空压,从而使所述处理液在所述通道中移动。

14.根据权利要求13所述的测量处理液排放量的方法,

测量所述处理液的步骤是:

所述处理液通过多个所述喷嘴分别被排出,从所述各喷嘴排出的各处理液分别通过不同的通道,并测量所述处理液的体积。

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