[发明专利]小尺寸低功耗的抗单离子辐照锁存器无效
申请号: | 201310478730.8 | 申请日: | 2013-10-14 |
公开(公告)号: | CN103607194A | 公开(公告)日: | 2014-02-26 |
发明(设计)人: | 杨玉红;胡燕翔;徐江涛 | 申请(专利权)人: | 天津市晶奇微电子有限公司 |
主分类号: | H03K19/094 | 分类号: | H03K19/094 |
代理公司: | 天津市北洋有限责任专利代理事务所 12201 | 代理人: | 刘国威 |
地址: | 300461 天津市南开区天津空*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 尺寸 功耗 离子 辐照 锁存器 | ||
1.一种小尺寸低功耗的抗单离子辐照锁存器,由2个开关、三个反相器构成,第一个开关经第一个反相器连接到第二个反相器,第一个开关经第二个开关、第三个反相器连接到第二个反相器,第一个反相器中PMOS型晶体管的栅极命名为E节点,第一个反相器中NMOS型晶体管的栅极命名为F节点,第三个反相器中PMOS型晶体管的栅极命名为G节点,第三个反相器中NMOS型晶体管的栅极命名为H节点,其特征是,在节点X和节点E之间增加一个PMOS型晶体管,所述一个PMOS型晶体管的源极接在节点X,所述一个PMOS型晶体管的漏极接节点E,所述一个PMOS型晶体管的栅极接地。在节点X和节点F之间增加一个NMOS型晶体管,所述一个NMOS型晶体管的源极接在节点X,所述一个NMOS型晶体管的漏极接在节点F,所述一个NMOS型晶体管的栅极接地;在节点Y和节点G之间增加另一个PMOS型晶体管,所述另一个PMOS型晶体管的源极接在节点Y,所述另一个PMOS型晶体管的漏极接G节点,所述另一个PMOS型晶体管的栅极接地;在节点Y和节点H之间增加另一个NMOS型晶体管,所述另一个NMOS型晶体管的源极接在节点Y,所述另一个NMOS型晶体管的漏极接H节点,所述另一个NMOS型晶体管的栅极接地。
2.如权利要求1所述的小尺寸低功耗的抗单离子辐照锁存器,其特征是,晶体管PM1和PM3的宽为0.8-1.0um,晶体管PM1和PM3的长为0.18-0.20um;晶体管NM1和NM3的宽为0.4-0.5um,晶体管NM1和NM3的长为0.18-0.20um;晶体管PM4、PM5、NM4和NM5的宽为0.18-0.20um,晶体管PM4、PM5、NM4和NM5的长为0.8-1.0um。
3.如权利要求1所述的小尺寸低功耗的抗单离子辐照锁存器,其特征是,晶体管PM1和PM3最佳宽长比为0.18/0.8;晶体管NM1和NM3的最佳宽长比为0.4/0.18;晶体管PM4、PM5,晶体管NM4和NM5的最佳宽长比均为0.18/0.8。
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